減少納諾設計的基體的製造的時刻

Published on June 4, 2009 at 9:00 AM

這個能力持續增加垂度筆 Nanolithography® (DPN®) 進程的可縮放性由新的設計非常高密度技巧列陣現在協助解決 (VHD)。

喬 Fragala, NanoInk 的 MEMS 設備的副總統,指明 「去除懸臂允許我們近似包裝更多技巧到區和我們的當前 55,000 筆設計一樣。 我們有有百萬技巧被製造的實驗設計,并且測試和這可能使一個納諾設計的基體的製造時期降低從超過每個設備 1 時數到仅幾分鐘」。

此工作是 NanoInk 的內部繼續努力的組合的結果大量促進並行 DPN 和最近新,啟用從伊利諾伊大學被准許了,爾般那平原鑄造的技巧的技術。

VHD 技巧列陣應該取得到為 NanoInk 的 DPN 5000, NSCRIPTOR™和 NLP 2000 系統在 Q4 2009年。 請與 NanoInk 聯繫對於更多信息在 sales@nanoink.net。

Last Update: 24. January 2012 18:06

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