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L'Istituto di Tecnologia di Nagoya Ordina Per lo Strumento di CVD di Magia Nera II da AIXTRON

Published on June 9, 2009 at 2:09 AM

AIXTRON AG, un fornitore principale della strumentazione del deposito all'industria a semiconduttore, annunciato oggi quell'Istituto di Tecnologia di Nagoya a Nagoya, Giappone, ha ordinato uno strumento di CVD di Magia Nera II.

L'ordine per lo strumento è stato ricevuto nel primo trimestre di 2009 e sarà consegnato in una configurazione a 2 pollici del wafer. È stato spedito durante il Q1 e l'impianto di sistema sarà completato dal gruppo di sostegno del locale AIXTRON nella funzione dell'università durante il Q2.

Le Magie Nera II, un CVD combinato del termale e strumento di CVD migliorato plasma, saranno usate per il deposito dei nanotubes del carbonio (CNTs) per lo sviluppo delle tecnologie per le unità microelettroniche quali i dissipatori di calore, via collegano per LSIs futuro, i transistor di effetto di campo (FETs), i sensori biologici ed altre componenti basate di nanotecnologia.

Associ Prof. Yasuhiko Hayashi, osservazioni dell'Istituto di Tecnologia di Nagoya: “Nella nostra valutazione il sistema di Magia Nera II CNT di AIXTRON abbina esattamente i nostri scopi della ricerca. Il programma di sviluppo per il nostro dissipatore di calore, via collega, componenti elettronici e le applicazioni del sensore richiede la crescita materiale che è gestita bene verticalmente come pure lateralmente è stata allineata in modo da creare CNTs nelle aree selettivamente modellate ad un tasso di crescita elevato. Sono sicuro che lo strumento sarà di notevole vantaggio che ci aiuta a produrre rapidamente ed efficientemente le strutture utili.„

Lo strumento di CVD della Magia Nera II di AIXTRON (applicazione a spruzzo chimica) impiega le tecnologie rapide del plasma e del riscaldamento che sono state provate nel campo dal 2005. Con questo sistema, i clienti possono produrre un intervallo dei tipi differenti di nanotubes, compreso i nanotubes a parete semplice e della super-crescita di bassa temperatura, del multiwall. Lo strumento è stato destinato per essere di facile impiego per il laboratorio o le installazioni produttive

Last Update: 17. January 2012 00:31

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