Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

Nagoya Institute of Technology Places Order for Black Magic II CVD Tool fra AIXTRON

Published on June 9, 2009 at 2:09 AM

AIXTRON AG , en ledende leverandør av deponering utstyr til halvlederindustrien, kunngjorde i dag at Nagoya Institute of Technology i Nagoya, Japan, har bestilt en Black Magic II CVD verktøyet.

Rekkefølgen for verktøyet ble mottatt i første kvartal 2009 og vil bli levert i en 2 tommers wafer konfigurasjon. Det ble sendt under Q1 og systemet installasjonen vil bli utfylt av lokale AIXTRON support team i universitetets anlegg i løpet av Q2.

The Black Magic II, en kombinert termisk CVD og plasma forbedret CVD verktøyet vil bli brukt til deponering av karbon nanorør (CNTs) for utvikling av teknologier for mikroelektroniske enheter som kjøleribber, via sammenkoblinger for fremtidige LSIS, felt-effekt transistorer (FET), biologiske sensorer og annet nanoteknologi baserte komponenter.

Associate professor Yasuhiko Hayashi, Nagoya Institute of Technology kommenterer: "Etter vår vurdering den AIXTRON Black Magic II CNT system matcher akkurat vår forskning mål. Utviklingsprogrammet for våre kjøleribbe, via sammenkoblinger, elektroniske komponenter og sensor applikasjoner krever materiell vekst som er godt kontrollert vertikalt samt å være sideveis justert, slik som å skape CNTs i selektivt mønstret områder med en høy vekstrate. Jeg er sikker på at verktøyet vil være til stor nytte å hjelpe oss fremskaffe nyttig strukturer raskt og effektivt. "

AIXTRON er Black Magic II CVD (kjemisk damp avsetning) verktøyet sysselsetter rask oppvarming og plasma-teknologier som har blitt påvist i feltet siden 2005. Med dette systemet, kundene er i stand til å produsere en rekke ulike typer nanorør, inkludert lav temperatur, multiwall, single-vegg og super-vekst nanorør. Verktøyet er designet for å være enkelt å bruke for enten laboratorium eller produksjonsanlegg

Last Update: 8. October 2011 19:52

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit