Nagoya Institute of Order Locais Tecnologia para Black Magic Ferramenta CVD II da AIXTRON

Published on June 9, 2009 at 2:09 AM

AIXTRON AG , fornecedora líder de equipamentos de deposição para a indústria de semicondutores, anunciou hoje que Nagoya Institute of Technology, em Nagoya, Japão, ordenou uma Black Magic II ferramenta de DCV.

A ordem para a ferramenta foi recebido no primeiro trimestre de 2009 e será entregue em uma configuração de wafer de 2 polegadas. Ele foi enviado durante a Q1 ea instalação do sistema será concluído pela equipe local AIXTRON apoio na instalação da universidade durante o Q2.

The Black Magic II, um CVD térmico combinado e plasma maior ferramenta de CVD, será usado para a deposição dos nanotubos de carbono (CNT) para o desenvolvimento de tecnologias para dispositivos microeletrônicos, tais como dissipadores de calor, através de interconexões de LSIs futuro, transistores de efeito de campo (FET), sensores biológicos e componentes nanotecnologia outro baseado.

Associado Prof Yasuhiko Hayashi, Nagoya Institute of Tecnologia comentários: "Em nossa avaliação a AIXTRON Black Magic II sistema CNT corresponde exatamente visa nossa pesquisa. O programa de desenvolvimento para o nosso dissipador de calor, através de interconexões, componentes eletrônicos e aplicações em sensores exige crescimento material que é bem controlada na vertical, bem como sendo lateralmente alinhadas de modo a criar os nanotubos de carbono em áreas seletivamente estampados em uma alta taxa de crescimento. Estou certo de que a ferramenta será de grande benefício nos ajudar a produzir estruturas úteis de forma rápida e eficiente. "

Preto AIXTRON Magic II CVD (deposição química a vapor) ferramenta emprega aquecimento rápido e tecnologias de plasma que foram provados no campo desde 2005. Com este sistema, os clientes são capazes de produzir uma gama de diferentes tipos de nanotubos, incluindo a temperatura baixa, multifoliado, de parede simples e super-crescimento de nanotubos. A ferramenta foi projetada para ser fácil de usar para instalações tanto de laboratório ou de produção

Last Update: 7. October 2011 03:45

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