Experten, zum sich auf den Industrie-Tendenz-, Technischen und Herstellungs-Lösungen Darzustellen

Published on June 22, 2009 at 7:23 AM

Eine Aufstellung von anerkannten technischen und Herstellungsexperten von SEMATECH und von der Internationalen SEMATECH-Herstellungs-Initiative (ISMI) bietet eine Reihe Vorträge und Werkstattsitzungen vom 14. bis 16. Juli 2009 an SEMICON an, das in San Francisco West ist.

„Mehr als überhaupt, ist diesjähriger SEMICON-Westen ein wichtiges Forum, damit unsere Industrie zusammen kommt, die besten Wege zu finden, Herausforderungen der komplexen Technologie anzusprechen und in einem schwierigen Geschäftsklima produktiv und rentabel bleiben,“ sagte Dr. Michael Polcari, Präsident und Vorstandsvorsitzende SEMATECHS. „Wir freuen uns, Industriekollegen zu treffen und das Teilen von Daten, von Strategien und von optimalen Verfahren.“

Die Aufstellung kennzeichnet fünf sachverständige Lautsprecher, die SEMATECH und seine Tochtergesellschaft ISMI darstellen, die auf der Einheit erscheinen, die TechXPOT-Stufe im Nord-Hall von Moscone-Mitte Einstuft. Dargestellt durch die verlässlichsten Quellen der Industrie in Halbleiter R&D, umfassen Themen CMOS-Skalierung, 3D sich untereinander verbindet, extreme ultraviolette Lithographie und ESH-Herausforderungen.

Die folgenden Lautsprecher werden eingeplant:

  • Raj Jammy, Vizepräsident SEMATECHS von Auftauchenden Technologien, „Materialien und Einheits-Herausforderungen für 22 nm und Über Technologien hinaus und HerstellungsErwägungen,“ Am 14. Juli am 10:30 A.m.
  • Paul-Kirsch, Direktor SEMATECHS von Vorderseite-Prozessen, „von Hoch--K Dielektrischen Materialien und von Elektroden-Herausforderungen für Hoch entwickelte Logik-und Zweikanalmagnetbandelemente bei 22 nm und Jenseits,“ Am 14. Juli am 3:00 P.M.
  • Sitaram Arkalgud, Direktor SEMATECHS der Verbindung 3D, „Herausforderungen in Technologie 3D TSV,“ Am 14. Juli am 3:20 P.M.
  • Tom Huang, ESH-Projektleiter ISMIS, „Energie-Reduzierungs-Herausforderungen für Anflug des Halbleiter-Fabs und Technologiezentrums ISMIS,“ Am 15. Juli am 12:10 P.M.
  • Bryan-Reis, Direktor SEMATECHS der Lithographie, „EUV-Bereitschaft: Eine Infrastruktur-Basierte Perspektive,“ Am 15. Juli am 4:10 P.M.

Zusätzlich bewirten SEMATECH und ISMI drei allgemeine Werkstätten während SEMICON-Westens:

  • Ausrüster teilen ihre Pläne auf, wie neue und vorhandene Wafermetrologietechnologien eingesetzt werden, geändert werden oder erhöht werden können, um der Verbindung 3D an der 3D-Metrologie-Werkstatt SEMATECHS am 16. Juli am 1:00 P.M. in den Salons Yerba Buena zu messen und zu verbessern Prozesse (12 und 13), am Marriott.
  • Koorganisiert mit HALB, konzentrieren sich Werkstatt EHerstellung ISMIS und EDA-Benutzergruppe auf die Geräten-Datenerfassungsschnittstelle (Schnittstelle A). Die EHerstellung, die Durchführungsstrategien auf den Anforderungen der Schnittstelle A aktiviert, wird einem Publikum von Chip-Herstellern, von Gerätenfirmen und von Software-Lieferanten am 16. Juli am 1:00 P.M. im Konferenzsaal des Golden Gate-(A2), am Marriott dargestellt.
  • Die Energie-Einsparung Enabler-Initiativen-Werkstatt, geführt durch HALB und ISMI, ist die erste in einer Reihe von globalen Sitzungen auf Energie-Einsparung. Teilnehmer hören formale Darstellungen und ziehen in den Arbeitsgruppensitzungen an, um über die Hauptherausforderungen zu kennzeichnen und sich einig zu sein, wenn sie Energieverbrauch im Gerät und Teildienste am 14. Juli am 1:30 P.M. am Marriott verbessern.

Einige von vorstehendsten Technologen SEMATECH und ISMI in der nanoelectronics Industrie werden SEMICON-Westen bedienen. Interviews mit Leitprogrammen und Sachverständigen sind auf Anfrage erhältlich. Um für das Treffen von Anwesenheit oder von Interviews anzuordnen, bringen Sie bitte erica.mcgill@sematech.org oder anne.englander@sematech.org in Kontakt.

Last Update: 14. January 2012 02:53

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