Expertos A Presentar en Soluciones de las Tendencias, Técnicas y de la Fabricación de la Industria

Published on June 22, 2009 at 7:23 AM

Una formación de expertos técnicos y de la fabricación reconocidos de SEMATECH y de la Iniciativa Internacional de la Fabricación de SEMATECH (ISMI) ofrecerá una serie de conferencias y de sesiones del curso del 14-16 de julio de 2009 en SEMICON Del Oeste en San Francisco.

“Más que nunca, el Oeste de este año de SEMICON será un foro importante para que nuestra industria venga junto encontrar las mejores maneras de dirigir retos de la tecnología compleja y tirante productivo y rentable en un clima de asunto desafiador,” dijo al Dr. Michael Polcari, el Presidente y Director General de SEMATECH. “Observamos hacia adelante a encontrar con a colegas de la industria y a compartir datos, estrategias, y mejores prácticas.”

La formación ofrece cinco locutores expertos que representan SEMATECH y su filial ISMI, que aparecerán en el Dispositivo Que Escala el Escenario de TechXPOT en el Pasillo Del Norte del Centro de Moscone. Presentado por las fuentes más de confianza de la industria del R&D del semiconductor, los temas incluirán la graduación a escala del CMOS, 3D interconectan, litografía ultravioleta extrema, y los retos de ESH.

Se programan los locutores siguientes:

  • Raj Jammy, el vicepresidente de SEMATECH de las Tecnologías Emergentes, “Materiales y Retos del Dispositivo para 22 nanómetro y Más Allá de Tecnologías, y Consideraciones de Fabricación,” 14 de julio en el 10:30 Mañana.
  • Kirsch de Paul, el director de SEMATECH de los Procesos de la Parte Frontal, de los “Altos-k Materiales Dieléctricos y Retos del Electrodo para las Tecnologías Avanzadas de la Lógica y de Memoria en 22 nanómetro y Más Allá,” 14 de julio en el 3:00 P.M.
  • Sitaram Arkalgud, el director de SEMATECH de la Interconexión 3D, “Retos en Tecnología de 3D TSV,” 14 de julio en el 3:20 P.M.
  • Tom Huang, gestor de proyecto del ESH de ISMI, “Retos de la Reducción de la Energía para la Aproximación del Centro del Semiconductor Fabs y de la Tecnología de ISMI,” 15 de julio en el 12:10 P.M.
  • Arroz de Bryan, el director de SEMATECH de la Litografía, “Disposición de EUV: Una Perspectiva Infraestructura-Basada,” 15 de julio en el 4:10 P.M.

Además, SEMATECH e ISMI recibirán tres cursos públicos durante el Oeste de SEMICON:

  • Los surtidores del Equipo compartirán sus planes en cómo las nuevas y existentes tecnologías de la metrología del fulminante se pueden utilizar, modificar, o aumentar para medir y para mejorar procesos de la interconexión 3D en el Curso de la Metrología del 3D de SEMATECH el 16 de julio en el 1:00 P.M. en los Salones de Yerba Buena (12 y 13), en el Marriott.
  • Coorganizado con SEMI, el Curso de la e-Fabricación de ISMI y Grupo de Utilizador de EDA se centrarán en el interfaz De adquisición de datos del Equipo (Interfaz A). La e-Fabricación que activa estrategias de puesta en vigor en los requisitos del Interfaz A será presentada a una audiencia de fabricantes de chips, de compañías del equipo y de surtidores del software el 16 de julio en el 1:00 P.M. en la Sala De Conferencias del Golden Gate (A2), en el Marriott.
  • El Curso Preliminar del Enabler del Ahorro de Energía, llevado por SEMI e ISMI, es el primer en una serie de reuniones globales sobre el ahorro de energía. Los Participantes oirán presentaciones formales y se engancharán a sesiones del grupo de trabajo para determinar y para estar de acuerdo con los retos primarios en mejorar uso de energía en el equipo y recursos el 14 de julio en el 1:30 P.M. en el Marriott.

Algunos de los tecnólogos más prominentes de SEMATECH y de ISMI en la industria del nanoelectronics asistirán al Oeste de SEMICON. Las Entrevistas con los segundos comandantes y los expertos técnicos están disponibles a petición. Para arreglar para resolver la atención o entrevistas, haga contacto con por favor erica.mcgill@sematech.org o anne.englander@sematech.org.

Last Update: 14. January 2012 00:40

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