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Esperti Da Presentare sulle Soluzioni Tecniche e di Fabbricazione di Tendenze, di Industria

Published on June 22, 2009 at 7:23 AM

Un programma degli esperti di fama in fabbricazione e tecnici da SEMATECH e da Iniziativa Internazionale di Fabbricazione di SEMATECH (ISMI) offrirà una serie di conferenze e di sessioni del workshop dal 14-16 luglio 2009 a SEMICON Ad Ovest a San Francisco.

“Più che mai, l'Ovest di quest'anno di SEMICON sarà un forum importante affinchè la nostra industria venga insieme a trovare i migliori modi indirizzare le sfide della tecnologia complessa e restare produttivo e proficuo in un clima congiunturale provocatorio,„ ha detto il Dott. Michael Polcari, il Presidente e direttore generale di SEMATECH. “Aspettiamo con impazienza di incontrare i colleghi dell'industria e la divisione i dati, le strategie e dei best practice.„

Il programma caratterizza cinque altoparlanti esperti che rappresentano SEMATECH e la sua consociata ISMI, che compariranno sull'Unità che Riporta In Scala la Fase di TechXPOT nel Corridoio Del Nord del Centro di Moscone. Presentato dalle sorgenti di fiducia dell'industria nella R & S a semiconduttore, gli argomenti comprenderanno la operazione di disgaggio di CMOS, 3D collega, la litografia ultravioletta estrema e sfide di ESH.

I seguenti altoparlanti sono preveduti:

  • Raj Jammy, il vice presidente di SEMATECH delle Tecnologie di Emergenza, “Materiali e Sfide dell'Unità per 22 nanometro ed Oltre le Tecnologie e Considerazioni Fabbricanti,„ 14 luglio al 10:30 di mattina
  • Kirsch di Paul, il Direttore di SEMATECH dei Trattamenti della Parte Frontale, “dei Materiali Dielettrici e delle Sfide Alti--K dell'Elettrodo per le Tecnologie Avanzate di Memoria e di Logica a 22 nanometro e Di Là,„ 14 luglio al 3:00 p.m.
  • Sitaram Arkalgud, il Direttore di SEMATECH dell'Interconnessione 3D, “Sfide nella Tecnologia di 3D TSV,„ 14 luglio al 3:20 p.m.
  • Tom Huang, project manager del ESH di ISMI, “Sfide di Riduzione di Energia per l'Approccio del Centro A Semiconduttore Fabs e di Tecnologia di ISMI,„ 15 luglio al 12:10 p.m.
  • Riso di Bryan, il Direttore di SEMATECH di Litografia, “Prontezza di EUV: Ad una Prospettiva Basata a infrastruttura,„ 15 luglio al 4:10 p.m.

Ulteriormente, SEMATECH e ISMI ospiteranno tre workshop pubblici durante l'Ovest di SEMICON:

  • I fornitori della Strumentazione divideranno le loro pianificazioni su come le nuove e tecnologie attuali della metrologia del wafer possono essere usate, modificate, o essere migliorate per misurare e migliorare i trattamenti di interconnessione 3D al Gruppo Di Lavoro della Metrologia del 3D di SEMATECH il 16 luglio al 1:00 p.m. nei Saloni di Yerba Buena (12 e 13), al Marriott.
  • Co-Organizzato con i SEMI, il Gruppo Di Lavoro della e-Fabbricazione di ISMI e Gruppo di Utenti di EDA metteranno a fuoco sull'interfaccia Dell'acquisizione dei dati della Strumentazione (Colleghi A). La e-Fabbricazione che permette alle strategie di implementazione sui requisiti dell'Interfaccia A sarà presentata ad un pubblico dei produttori di chip, delle società della strumentazione e dei fornitori del software il 16 luglio al 1:00 p.m. nell'Auditorium di Golden Gate (A2), al Marriott.
  • Il Gruppo Di Lavoro di Iniziativa del Enabler di Risparmio Energetico, Piombo dai SEMI e da ISMI, è il primo in una serie delle riunioni globali su risparmio energetico. I Partecipanti sentiranno le presentazioni convenzionali e si impegneranno nelle sessioni del gruppo di lavoro per identificare e acconsentiree sulle sfide primarie nel miglioramento l'uso di energia in strumentazione e degli impianti il 14 luglio al 1:30 p.m. al Marriott.

Alcuni dei tecnologi più prominenti di ISMI e di SEMATECH nell'industria di nanoelectronics assisteranno all'Ovest di SEMICON. Le Interviste con i quadri e gli esperti tecnici sono disponibili su richiesta. Per assicurare la riunione la partecipazione o delle interviste, contatti prego erica.mcgill@sematech.org o anne.englander@sematech.org.

Last Update: 16. January 2012 23:45

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