企業の傾向の、技術的なおよび製造業の解決で示すべき専門家

Published on June 22, 2009 at 7:23 AM

SEMATECH および国際的な SEMATECH の製造業のイニシアチブからの認識された技術的なおよび製造業の専門家の整列は (ISMI) 2009 年 7 月 14-16 日サンフランシスコの SEMICON の西のからの一連の講議そして研修会セッションを提供します。

「多くに、今年の SEMICON の西は複雑な技術の挑戦をアドレス指定する最もよい方法を見つけることを一緒に来る私達の企業のための重要なフォーラムであり、挑戦的な産業風土でプロダクティブそして有益にとどまるため」、先生、 SEMATECH の社長兼最高経営責任者を言いましたミハエル Polcari。 「私達は企業の同僚に会い、データ、作戦および最良の方法を共有することを楽しみにしています」。

整列は Moscone の中心の北ホールの TechXPOT の段階を位取りする装置で現われる子会社 ISMI を表す 5 つの巧妙なスピーカーを特色にしますおよび SEMATECH。 半導体 R & D の企業の最も信頼されたソースによって示されて、トピックは CMOS のスケーリング、 3D を相互接続します、極度な紫外石版印刷および ESH の挑戦含んでいます。

次のスピーカーはスケジュールされます:

  • 10:30 AM に、 SEMATECH の出現技術、 「材料および装置挑戦、および 22 nm のためのそして技術を越える製造の考察の副大統領」、 7 月 14 日 Jammy Raj。
  • ディレクターポール Kirsch、 22 nm の高度の論理およびメモリ技術のためのフロント・エンドプロセス、 「高k 誘電材料および電極の挑戦の SEMATECH のおよび向こう」、 3:00 P.m. の 7 月 14 日。
  • ディレクター Sitaram Arkalgud、 3D 相互接続の SEMATECH の、 「3D TSV の技術の挑戦」、 3:20 P.m. の 7 月 14 日。
  • トム黄、半導体 Fabs および ISMI の技術センターのアプローチのための ISMI の ESH のプロジェクトマネージャー、 「エネルギー減少挑戦」、の 12:10 P.m. の 7 月 15 日。
  • Bryan の米、石版印刷の SEMATECH のディレクター、 「EUV の準備: 下部組織ベースの見通し」、 4:10 P.m. の 7 月 15 日。

さらに、 SEMATECH および ISMI は SEMICON の西の間に 3 つの公共の研修会を催します:

  • 装置の製造者は Marriott で新しく、既存のウエファーの度量衡学の技術がどのようにの (12 および 13) 使用されるか、修正されるか、または Yerba Buena の大広間の 1:00 P.m. に 7 月 16 日に SEMATECH の 3D の度量衡学の研修会で 3D 相互接続プロセスを測定し、改善するのに高めることができるか彼らの計画を共有します。
  • 半と共同組織されて、 ISMI の e 製造業の研修会および EDA の装置データ収集インターフェイス (A) インターフェイスにユーザ・グループ焦点を合わせます。 インターフェイス A 条件の実現戦略を可能にする e 製造業は Marriott のゴールデンゲート (A2) 会議室の 1:00 P.m. の 7 月 16 日にチップメーカー、装置の会社およびソフトウェアの製造者の聴衆に、示されます。
  • 半によって導かれるエネルギー保存の Enabler の初めの研修会および ISMI は、エネルギー保存の一連の全体的な会合の第 1 です。 関係者は形式的な提示を聞き、ワークグループセッションで装置のエネルギー利用および 1:30 P.m. に Marriott で 7 月 14 日に機能の改良の一次挑戦に識別し、一致するために実行します。

nanoelectronics 工業の SEMATECH および ISMI の最も顕著な科学技術者の何人か SEMICON の西に出席します。 エグゼクティブおよび技術者とのインタビューは要望に応じて使用できます。 出席かインタビューに会うことを準備するためには、 erica.mcgill@sematech.org か anne.englander@sematech.org に連絡して下さい。

Last Update: 13. January 2012 23:05

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