Nanopatterning 的世界市场期望在 2012年之前达 $481.48 百万

Published on June 23, 2009 at 3:21 AM

GIA 宣布全面全球报道的版本关于 Nanopatterning 市场的。 虽然常规光学制版技术为制造的集成电路是用途广泛切削与功能大小至子100nm,他们下侧是高科技石版印刷系统的非常消耗大的本质,对得以进入的行业制约了他们的用量对充足的资金的。 新,非常规的 nanopatterning 的技术尝试通过提供装载此无效低价,高在印进程中。

仿造毫微米缩放比例功能的持续的研究使用不同的材料和抵抗接着而来了热装饰, UV-NIL、 microcontact 打印和垂度笔 nanolithography 诞生和进展,除了别的以外。 仍然在研究下 nanostencil 石版印刷,高分辨率,影孔板方法以动态潜在。

在 Nanopatterning 技术中, Nanoimprint 石版印刷 (NIL)陈列这个最有为的外型。 预期零在不久的将来涌现成功为商业半导体制造在 32nm 节点,零的市场设想生长最快速在 2008年和 2015年之间。 零技术,紫外 nanoimprint 石版印刷设想增长到最快速从 2008年到 2015年。 预计的另一个零技术执行极为很好是热装饰的石版印刷。

这个第二大 nanopatterning 的市场,浏览的探测石版印刷,将看到其共用拒绝从 2008年到 2015年。 在不同的应用中,半导体应用和微电子学制造表示最大的 nanopatterning 的应用。

全球市场描绘为参与者例如 Ambios Technology, Inc. (美国), Gmbh 的 AMO (德国), EV 组 (奥地利),惠普开发公司, L.P. (美国), IMS 筹码 (美国), International Business Machines Corp. (美国),微小抵抗 Gmbh 的技术 (德国), Molecular Imprints, Inc. (美国), NanoInk, Inc. (美国), Nanonex Corp. (美国), NanoOpto Corp. (美国),零技术 (丹麦), Obducat AB (瑞典), Optomec, Inc. (美国),斯格码Aldrich Corp. (美国), STMicroelectronics N.V. (瑞士), SUSS AG MicroTec (德国), Toppan Photomasks, Inc. (美国),调用 Devices, Inc. (美国), Veeco Instruments, Inc. (美国) 和 Vistec Gmbh 半导体的系统 (德国)。

“Nanopatterning : Global”宣布的一个全球有战略意义的业务报告 Industry Analysts, Inc. 提供市场趋势一个全面审查、技术、技术、球员、竞争、研究 & 发展、新发展、合并、购买和其他有战略意义的产业活动。 全球分析为 nanopatterning 的技术存在例如 Nanoimprint 石版印刷 (包括热装饰, UV-NIL, Microcontact 打印和其他),扫描探测石版印刷和其他。

Last Update: 13. January 2012 20:05

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