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Nanopatterning 的世界市場期望在 2012年之前達 $481.48 百萬

Published on June 23, 2009 at 3:21 AM

GIA 宣佈全面全球報道的版本關於 Nanopatterning 市場的。 雖然常規光學制版技術為製造的集成電路是用途廣泛切削與功能大小至子100nm,他們下側是高科技石版印刷系統的非常消耗大的本質,對得以進入的行業制約了他們的用量對充足的資金的。 新,非常規的 nanopatterning 的技術嘗試通過提供裝載此無效低價,高在印進程中。

仿造毫微米縮放比例功能的持續的研究使用不同的材料和抵抗接著而來了熱裝飾, UV-NIL、 microcontact 打印和垂度筆 nanolithography 誕生和進展,除了別的以外。 仍然在研究下 nanostencil 石版印刷,高分辨率,影孔板方法以動態潛在。

在 Nanopatterning 技術中, Nanoimprint 石版印刷 (NIL)陳列這個最有為的外型。 預期零在不久的將來湧現成功為商業半導體製造在 32nm 節點,零的市場設想生長最快速在 2008年和 2015年之間。 零技術,紫外 nanoimprint 石版印刷設想增長到最快速從 2008年到 2015年。 預計的另一個零技術執行極為很好是熱裝飾的石版印刷。

這個第二大 nanopatterning 的市場,瀏覽的探測石版印刷,將看到其共用拒绝從 2008年到 2015年。 在不同的應用中,半導體應用和微電子學製造表示最大的 nanopatterning 的應用。

全球市場描繪為參與者例如 Ambios Technology, Inc. (美國), Gmbh 的 AMO (德國), EV 組 (奧地利),惠普開發公司, L.P. (美國), IMS 籌碼 (美國), International Business Machines Corp. (美國),微小抵抗 Gmbh 的技術 (德國), Molecular Imprints, Inc. (美國), NanoInk, Inc. (美國), Nanonex Corp. (美國), NanoOpto Corp. (美國),零技術 (丹麥), Obducat AB (瑞典), Optomec, Inc. (美國),斯格碼Aldrich Corp. (美國), STMicroelectronics N.V. (瑞士), SUSS AG MicroTec (德國), Toppan Photomasks, Inc. (美國),調用 Devices, Inc. (美國), Veeco Instruments, Inc. (美國) 和 Vistec Gmbh 半導體的系統 (德國)。

「Nanopatterning : Global」宣佈的一個全球有戰略意義的業務報告 Industry Analysts, Inc. 提供市場趨勢一個全面審查、技術、技術、球員、競爭、研究 & 發展、新發展、合併、購買和其他有戰略意義的產業活動。 全球分析為 nanopatterning 的技術存在例如 Nanoimprint 石版印刷 (包括熱裝飾, UV-NIL, Microcontact 打印和其他),掃描探測石版印刷和其他。

Last Update: 24. January 2012 19:26

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