林德在 STMicroelectronics 安装欧洲的第一台铈明显的现场的氟素生成器

Published on June 29, 2009 at 5:57 AM

作早期工作在半导体能承受的制造的欧洲电子工业的工作成绩,林德气体,林德组的部门,在 STMicroelectronics 的 Crolles 300mm 薄酥饼合成工厂安装了 (F2)欧洲的第一台铈明显的现场的电子等级氟素生成器在法国。 作为降低生产半导体的环境影响的 STMicroelectronics 的主动性一部分,高压磁道 F2 被二台新的林德生成F 现场的氟素生成器替换了 - 提供低压,充分地冗余用品高纯度 F2 和消灭需要运输对和保留在站点的磁道。

林德氟素生成器和辅助设备结合证明的技术以内在地安全的设计为化学气相沉积房间清洁提供 STMicroelectronics 纯 F2 的一个按需式,安全和极可靠的 (CVD)来源。 氟化氢一个磁道 (作为参考来源资料用于现场的生成器) 提供相同数量 F2 给很好作为 100 个高压 F2 磁道 - 极大减少维护工作量,而非常低系统压力为所有 STMicroelectronics 工程师提供更加极大的安全性。

“当热量 CVD 熔炉的运算符查找优选费用和通过更加严格的安全需要使风险减到最小,林德为现场的被生成的氟素看到采用的更加快速的步幅”,半导体产品经理说格雷戈 Shuttleworth,林德气体分部的。 “我们在使用 F2 上也看到增长的兴趣作为替代对 NF3 等离子提高 CVD 房间清洁的由于对可能制约其使用 NF3 和临近规章制度的非常高全球性变暖潜在的关心”。

“欧洲的第一台现场的氟素生成器的安装在我们的 Crolles 薄酥饼合成工厂的是遗嘱对 STMicroelectronics 的承诺对增长的安全性,并且改进我们的环境脚印”,大卫 Ferrand,设施的主任说在 Crolles 200 和 Crolles 的 300 fabs。 “我们在 Crolles 300mm 直接地减少了我们的碳脚印通过消灭磁道发运。 我们由在更加了不起的环境效率的潜在激发通过使用在其他清洁应用的发电能力”。

以前,每磁道更改是这个系统的污秽的一个机会,但是 STMicroelectronics Crolles 300mm 设备现在有气体配件箱要素的更加极大的可靠性通过消灭这些常见的更改。 也有较少有害废料,尽管没有需要清除磁道保证他们在更改的,增长的储蓄和减少在 STMicroelectronics 的减少系统的负荷前是完全地空的。

林德生成F 现场的氟素生成器是通过广泛的第三方安全性评估,并且可能现在添加铈标记到在国民和行业被认可的安全标准其列表的中半 S2 证明。 除生成器之外,安全传送可变的相当数量氟素,也是铈明显和半 S2 被确认的林德的辅助缓冲和减少系统。 包括那些在 STMicroelectronics,林德供应了并且运行接近 30 个生成F 系统全世界满足这个半导体,显示,并且光致电压的行业的房间清洁需要。

减少使用的 STMicroelectronics 的程序能源、水和化学制品在所有站点是其长年的环境效率途径的基础对环境管理工作。 STMicroelectronics 考虑它使用化学制品的管理,以及气候变化,比如最重要的环境问题和由超过百分之五减少化工冲减一年,平均,自 1998年以来。

Last Update: 13. January 2012 20:05

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