KLA-Tencor は 28xx 広帯域 Brightfield の検査システムのための新しいアップグレードのパッケージを発表します

Published on June 30, 2009 at 9:09 PM

今日 KLA-Tencor Corporation (NASDAQ: KLAC)、プロセス制御の一流の提供者はおよび最新式の点検を開発するために管理解決、世界中の顧客を持つパートナーをもたらし、度量衡学の技術は、 XP の 28xx 広帯域 brightfield の検査システムのための新しいアップグレードのパッケージを発表しました。

XP のパッケージは標準 IC の設計レイアウトファイルへの検査システムアクセス - マスクの店がマスクを模造することを可能にする命令を与える最初の商用化された製品です。 この情報へのアクセスを使うと、検査システムは装置収穫に影響を与えることの確率推定値をよくするのに回路内の欠陥の位置の知識を使用できます。 さらに、 XP は印刷の間にプロセス変化に特に敏感かもしれないマスクの機能を識別するのにデザインわかっているウエファーの点検の結果を使用できます。 XP のアップグレードのパッケージのこれらそして他の機能は存在 28xx 検査官の感度そして生産性を改善し、欠陥の結果の情報量を上げるように設計され欠陥問題の識別そして解像度の加速を助けます。

「私達の消費者主導の市場のチップ複雑さおよび価格圧力増加としてルート原因の欠陥分析を、彼らの生産性を改善するために促進することを、私達の顧客はツールを頼んで、より効率的な傾斜路はより速くもたらすために」、マイク Kirk、 Ph.D。、副大統領および KLA-Tencor のウエファーの点検グループの総務部長に気づきました。 「今日私達の先端の fabs は 193nm 石版印刷が次元のほぼ 10 分の 1 のの機能を照明の波長印刷することを可能にする高度の石版印刷の技術可算原子で今測定することができる次元に対処しなければなりません。 この環境では、マスクのウエファーの最も小さい欠陥か最底限のパターンは巨大な収穫の影響があることができます。 私達の新しい XP のパッケージは私達の顧客のアドレス指定で主要な一歩前進を表します」欠陥の捕獲を最適化し、関係がないまたは ` の迷惑」の欠陥の海からの組織的および他の収穫関連した欠陥を識別する必要があって下さい。 さらに、 XP はこの貴重な機能を効率よく提供できます: としてほとんどの先端の fabs に既に」。ある検査システムのためのアップグレード

新しい XP のパッケージは下記のものを含んでいる点検結果か検査官の生産性を改善するように設計されている複数の機能を含んでいます:

  • 欠陥のサイトで回路パターンの密度に基づく収穫関連した欠陥の優先捕獲 - 点検の間に -;
  • 回路設計情報のパターングループに従って非常に集中させた欠陥の検出のしきい値をセットするのに使用によるダイス内のすべての関心領域全体の欠陥の捕獲の最適化;
  • 最も小さいプロセスマージンを持っているパターンタイプの近いモニタリングによって可能になる最底限の石版印刷の状態の早期検出; そして
  • 派生的な 「調理法」のオフ・ラインの生成 - 点検を支配する光学の、機械およびアルゴリズムパラメータ設定 - 新しい層または新しい装置のための…。 この機能、複数の調理法加速機能の 1 は、かなり調理法セットアップ、それにより増加する検査官の生産性、調理法の最適化を装置の小さい多くか急速なプロトタイピングのために実行可能にさせるの時間を減らし、必須を労働できます。

広く採用された 281x および 282x brightfield の検査システムへのアップグレードが多重鋳物場に、 XP のパッケージ出荷されたと同時に提供された、メモリおよび論理の fabs は 20 以上のテクニカルペーパーでおよび特色になりました。

Last Update: 13. January 2012 21:40

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