在先进的进程、材料和制造的谈话重点 Nanoelectronics 设备的

Published on July 6, 2009 at 7:48 PM

关于 nanoelectronics 的被认可的学术和技术专家从学院 Nanoscale 科学和工程 (“CNSE”) 大学在阿尔巴尼在旧金山被选择提供介绍在 SEMICON 西部 2009年,将被暂挂的主导产业会议和展览会 CA. 7月 13日至 17日。

方法、联盟和财团副总裁,预定罗伯特 Geer 博士, CNSE Nanoscale 科学学术事物副总裁和首席学术军官和教授和理查 Brilla, CNSE 告诉作为称 TechXPOT 的 SEMICON 的设备一部分,在 Moscone 中心的北厅被暂挂。

Geer 的介绍,题为 “在筹码的演变为等同的比例缩放互联: 对 22nm 和以远”,预定在星期二,在 12:10 P.m. Geer 的 7月 14日将描述与多芯的在筹码结构的转移如何迅速地改变了结束模式互连示例的前景,显示需要利用处理的 3D,新颖的信号途径、新的物质简介和之后 CMOS 切换综合化维护充分超过 22nm 的等同的比例缩放。

在星期三, Brilla 讨论 “加速的发展 - 延伸的穆尔的法律”, 7月 15日在 11:50 上午,他将概述唯一 CNSE 示例如何允许工具的综合化,材料和资源和在加速的和有效工艺过程开发的结果。 特别是,他将着重在 CNSE 和数的协作其全球总公司合作伙伴之间,包括国际 SEMATECH 和 Atotech。

CNSE 资深副总裁和总执行官阿兰 E. Kaloyeros 博士说, “Brilla 作为有名望的 SEMICON 西部的 2009 赠送者强调 UAlbany NanoCollege 的全球名誉作为在提前创新 nanoelectronics 教育的一个世界领导人罗伯特 Geer 和理查的选择,研究与开发和商品化。 我们盼望显示 CNSE 的国际水平的功能,被驱动,并且支持由唯一官民合伙企业,帮助我们的行业合作伙伴每次保持有生产力这个行业的挑战”。

其中一个最大的行业会议和展览会, SEMICON 西部每年吸引超过从 15 个国家(地区) 的 45,000 个参与者,以及领先世界的 nanoelectronics 技术公司,负责每专业技术突破从集成电路的诞生。

Last Update: 13. January 2012 19:23

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