De Migratie aan Koper voor de Hoge Apparaten van het Geheugen van het Eind Blijft het Baseren bij de Strakkere Procesbeheersing Kweken zich

Published on July 7, 2009 at 6:07 AM

De Meetinstrumenten Ltd van de Nova (NASDAQ: NVMI) de leverancier van voorrand stand-alone metrologie en de marktleider van geïntegreerde metrologieoplossingen voor de markt van de halfgeleiderprocesbeheersing kondigden vandaag aan dat zijn NovaScan Geïntegreerde oplossing van de Metrologie voor de procesbeheersing van het Koper bij twee belangrijke fabrikanten van het flitsgeheugen is opgesteld. De veelvoudige NovaScan Geïntegreerde installaties van de Metrologie vonden tijdens de eerste helft van 2009 plaats. Het Bedrijf meldde ook meer orden die begin Juli voor gelijkaardige hulpmiddelen van een belangrijke gieterij worden ontvangen die het Bedrijf in het derde trimester van 2009 zal leveren.

Door nauwkeurig de de lijndikte te meten die van het Koper Optische CD NovaScan met behulp van en door Geavanceerde Procesbeheersing op te stellen (APC) werd de het procesveranderlijkheid van het Koper verminderd door 30%. De Samenwerking met de klanten toonde ook een potentieel van verder het verminderen van procesveranderlijkheid door de de geuldiepte van het Koper met een stand-alone hulpmiddel NovaScan na Etch te meten en het resultaat vooruit te voeden aan CMP aan.

„Als deel van de beweging aan de 50nm en 40nm technologieknopen, het begin van geheugenfabrikanten het integreren verstrekt het Koper in hun apparaten en Optische CD een nuttig middel om relevante stappen in het proces“ bovengenoemde Noam Shintel, Directeur te meten en te controleren van Collectieve marketing bij Nova. „Met onze oplossing die reeds in gieterijen wordt opgesteld en die snelle proliferatie van Koper wordt gegeven aan de geheugensector, zie Ik een groot potentieel voor onze metrologieoplossingen. Door de metrologie van de Nova samen met kan het wafeltje aan wafeltje procesbeheersing op te stellen, geheugenfabrikanten hun proces van het Koper beduidend verbeteren en het procesveranderlijkheid van het Koper verminderen door dozens procentpunten.“

De procesbeheersing van het Koper van de Flits is als het eisen als logicaprocesbeheersing. Het is kritiek om het weerstandsvermogen van de lijn van het Koper te controleren en daarom precies het de lijnprofiel van het Koper controleren dat het weerstandsvermogen van de spaander bepaalt. De gevolgen van de Topografie zoals het dishing en erosie beïnvloeden de apparaten parasitische capacitieve weerstand, de lekkagemacht en de opbrengst. Bij kleinere CD van geavanceerde technologieknopen en de verhoogde tekorten van de dichtheidsoorzaak zoals barrièreresidu's terwijl de leegten in het Koper dominant geworden in het afschrikken van opbrengst vullen.

NovaScan Integreerde Metrologie die de industrie belangrijke betrouwbaarheid kenmerken en de productie van minder dan één tweede Beweging Verwerft de tijd (MAM) van de Maatregel, die aan NovaMARS tweede wordt gekoppeld en 3D modelleringssoftware, verstrekt het vermogen het de lijnprofiel van het Koper, het dishing, erosie, barrièreresidu's en andere het procesparameters nauwkeurig om te meten van het Koper zonder het beïnvloeden van de algemene cyclustijd of de snelheid van het Poetsmiddel te verminderen.

Last Update: 14. January 2012 02:16

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit