Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

Переселение к Меди для Приборов Памяти Верхнего Сегмента Продолжается Вырасти Полагающся на более Плотном Управлении Производственным Процессом

Published on July 7, 2009 at 6:07 AM

Аппаратуры Ltd. Новы Измеряя (NASDAQ: Провайдер NVMI) метрологии ведущей кромки отдельно стоящей и лидер рынка интегрированных разрешений метрологии к управлению производственным процессом полупроводника выходят на рынок сегодня объявлено что свое Интегрированное NovaScan разрешение Метрологии было раскрыно для Медного управления производственным процессом на 2 ведущих завода флэш-память. Множественные Интегрированные NovaScan установки Метрологии осуществили во время первой половины 2009. Компания также сообщила больше заказов полученных в начале Июль для подобных инструментов от главной плавильни которую Компания поставит в третей четверти 2009.

точно измерять Медную линию толщину используя КОМПАКТНЫЙ ДИСК NovaScan Оптически и путем раскрывать Выдвинутое Управление Производственным Процессом (APC) Медная отростчатая изменчивость была уменьшена 30%. Сотрудничество с клиентами также продемонстрировало потенциал более далее уменьшать отростчатую изменчивость путем измерять Медную глубину шанца с инструментом NovaScan отдельно стоящий после Etch и подавать результат вперед к CMP.

«Как часть движения к узлам технологии 50nm и 40nm, изготовления памяти начинают интегрировать Медь в их приборы и Оптически КОМПАКТНЫЙ ДИСК обеспечивает полезные середины измерить и контролировать уместные шаги в процесс» сказал Noam Shintel, Директор Корпоративного маркетинга на Нове. «При наше разрешение уже раскрынное в плавильнях и, котор данное быструю пролиферацию Меди к участку памяти, Я вижу большой потенциал для наших разрешений метрологии. Путем раскрывать метрологию Новы вместе с вафлей к управлению производственным процессом вафли, изготовления памяти могут значительно улучшить их Медный процесс и уменьшить Медную отростчатую изменчивость множества процентами.»

Внезапное Медное управление производственным процессом как требовательно как управление производственным процессом логики. Критическое контролировать резистивность Медной линии и поэтому точно контролировать Медную линию профиль которая определяет резистивность обломока. Влияния Топографии как аффект dishing и размывания емкость прибора паразитные, сила утечки и выход. На Компактном диске узлов передовой технологии более малом и увеличенных дефектах причины плотности как выпарки барьера пока свободные пространства в Медном заполнении будут доминантными в отговаривать выход.

NovaScan Интегрировало Метрологию отличая надежностью индустрии ведущей и объём меньш чем одного Движения секунды Приобретает время (MAM) Измерения, соединенное с NovaMARS 2D и 3D моделируя ПО, обеспечивает возможность точно для того чтобы измерить Медную линию профиль, dishing, размывание, выпарки барьера и другие Медные параметры процесса без влияния общего времени цикла или уменьшения скорости Полировщика.

Last Update: 14. January 2012 01:57

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit