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迁移到高端存储设备的铜继续增长取决于更加严密程序控制

Published on July 7, 2009 at 6:07 AM

新星测量仪器有限公司 (那斯达克: 前沿独立计量学和集成计量学解决方法市场带头人的 NVMI) 提供者对半导体程序控制的市场的今天宣布其 NovaScan 集成的计量学解决方法为铜程序控制部署了在二个主导的闪存制造商。 在前半 2009年期间,多个 NovaScan 集成的计量学安装进行了。 公司也报告了在相似的工具的 7月初收到的更多顺序从公司在第三季度将传送 2009年的一个主要铸造厂。

通过准确评定使用 NovaScan 光学 CD 的铜线路厚度和由部署的提前的程序控制 (APC) 30% 减少铜处理可变性。 与客户的协作通过今后评定与 NovaScan 独立工具的铜沟槽深度在铭刻以后和提供结果也展示了进一步使处理可变性降低潜在到 CMP。

作为移动一部分向 50nm 和 40nm 技术节点, “内存制造商开始集成铜他们的设备,并且光学 CD 提供有用的平均值评定,并且控制相关步骤在这个进程中” Noam Shintel,总公司市场营销的主任说在新星的。 “与我们的解决方法已经部署在铸造厂和产生铜的迅速扩散内存部门,我为我们的计量学解决方法看到巨大潜在。 通过部署与薄酥饼一起的新星的计量学对程序控制的薄酥饼,内存制造商可能极大改进他们的铜进程和由数十个百分点减少铜处理可变性”。

一刹那铜程序控制是一样过分要求的象程序控制的逻辑。 控制铜线路的抵抗力并且精密地控制确定筹码的抵抗力的铜线路配置文件是重要的。 象断送和侵蚀影响的地势作用设备寄生电容、损失功率和产量。 在先进技术节点更小的 CD 的和增加的密度原因缺陷例如障碍残滓,当无效在铜装载变得统治时在阻止产量。

NovaScan 集成以行业主导的可靠性为特色的计量学,并且处理量少于一秒钟移动获取评定 (MAM)时间,加上 NovaMARS 第 2,并且塑造软件的 3D,提供这个功能准确地评定这条铜线路配置文件,断送,侵蚀,障碍残滓和其他铜过程参数,无需影响整体循环时间或减少磨光器速度。

Last Update: 13. January 2012 19:23

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