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Posted in | Nanoelectronics

Les Capacités Intégrées du DFM de la Rencontre Fournit le Flux De bout en bout Complet pour le Flux de Référence de STARCAD-CEL V3.0

Published on July 8, 2009 at 9:03 PM

Cadence Design Systems, Inc. (NASDAQ : CDNS), l'amorce dans l'innovation globale de design, annoncée aujourd'hui le consortium Japonais STARC (Centre de recherches de semi-conducteur de Recherche Universitaire de Technologie Des Semiconducteurs), A intégré le Système de Mise En Place de Cadence® Encounter® Digital, avec ses technologies intégrées de DFM, car ses DFM circulent visant 45 designs de nanomètre et ci-dessous. La suite complète de DFM intègre l'Analyseur Matériel de Litho de Cadence (LPA), le Facteur prédictif de CMP Électrique d'Analyseur (LEA), et de Cadence de Litho de Cadence dans la carlingue du créateur. Utilisant la Cadence activée le Flux de Référence de STARCAD-CEL V3.0, accès facile de gain de créateurs à l'information procédé-précise de fabrication première dans le flux de design matériel, où les ingénieurs peuvent influencer l'intégration parfaite dans la mise en place digitale pour recenser, analysent et rectifient rendement-limiter des hotspots pour leurs designs d'avancé-noeud. De plus, avec l'Analyseur Électrique de Litho, les créateurs peuvent analyser l'incidence de litho sur la performance de transistor et effectuer des compromis de design nécessaires pour répondre à leurs critères de design.

« Le Flux neuf de Référence de STARCAD-CEL V3.0 aborde des préoccupations critiques de design-pour-fabrication pour 65nm, 45 nanomètres et technologies de la transformation avancées, » a dit Nobuyuki Nishiguchi, Vice Président et Le Directeur Général, le Service 1 de Développement à STARC. « Le Système de Mise En Place de Digitals de Rencontre de Cadence avec l'Analyseur Matériel de Litho a fourni le dépistage très précis de point névralgique de litho et la correction et la correction de cents pour cent du catastrophique ou du rendement limitant des défauts dans notre design de test, tout en également fournissant un temps de retournement plus rapide. »

L'Analyseur Matériel de Litho de Cadence arme la force des capacités du traitement en simultanéité multi-CPU, avec la classe des propriétaires, les algorithmes fondamentaux fournissant l'évolutivité linéaire de performance et le temps de retournement plus rapide comme enregistré par STARC. Avec des avances multiples dans la modélisation et l'intégration de processus de technologie avec l'IC de Virtuoso® de Cadence et les Plates-formes Faits Sur Commande de Mise En Place de Digitals de Rencontre, la Cadence fournit une solution digitale complète de mise en place de « correct-par-design » pour la cellule/case à la plein-puce.

« L'entreprise de semiconducteurs et l'écosystème identifie les technologies de la Cadence DFM comme essentiel aux méthodologies de conception avancées aujourd'hui, » a dit M. Chi-CINGLEMENT Hsu, vice-président principal de recherche et développement digitale de mise en place à la Cadence. « C'est la différence entre recenser les délivrances potentielles de DFM pendant la phase de design et les fixer droites là dans le système, contre découvrir le rendement limitant des défauts pendant le processus de fabrication, quand il est trop tard. Nous sommes fiers de travailler attentivement avec STARC pour prouver les avantages de notre technologie de DFM et solution digitale de mise en place pour leur flux de modèle de référence du nanomètre 45. »

Les compagnies de Semi-conducteur mondiales ont besoin maintenant de l'analyse de DFM pendant la phase de design, et la majorité des 20 compagnies principales de semi-conducteur ont maintenant adopté les solutions du DFM de la Cadence pour atteindre leurs objectifs d'exactitude, de performance et de rendement.

Last Update: 16. January 2012 23:40

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