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Colaboración Para Dirigir el Análisis Elemental En Línea de los Defectos para el Nodo 45nm y Más Allá

Published on July 13, 2009 at 8:12 AM

Compañía de FEI, (NASDAQ: FEIC), un proveedor de cabeza de los sistemas de la proyección de imagen y de análisis de la atómico-escala, y SEMATECH, el consorcio global de fabricantes de chips, anunciado hoy que la Compañía de FEI ha ensamblado el Programa de Revelado Avance de la Metrología de SEMATECH en la Universidad de la Ciencia y de la Ingeniería (CNSE) de Nanoscale de la Universidad en Albany. La colaboración se desplegará en esfuerzos conjuntos actuales para el revelado de tecnologías nuevas para activar mando de proceso mejorado y para rendir.

Como pieza de este programa, FEI colaborará con los expertos en las divisiones de la Metrología de SEMATECH para desarrollar capacidades de alta resolución del análisis de la microscopia electrónica (TEM) de transmisión, con espectroscopia de pérdida de energía de electrón (EELS) y tecnología enfocada del haz (FIB) de ión para dirigir necesidades críticas en el revelado de proceso y el análisis de defecto. Estas herramientas proporcionarán a la proyección de imagen de alta resolución y a los datos compositivos en la escala de algunos nanómetros, que es inestimable para el análisis de defecto.

“El Programa de la Metrología del Revelado Avanzado es un ejemplo típico del modelo colaborativo de SEMATECH en el cual los fabricantes de cabeza del equipo y de los materiales pueden participar en una sociedad más amplia de la consorcio-universidad-industria para desarrollar técnicas puntas de la metrología y de la caracterización,” dijo a Juan Warlaumont, vicepresidente de SEMATECH de la tecnología. “El esfuerzo colaborativo entre investigadores y representantes técnicos de calidad mundial de FEI, SEMATECH y CNSE, junto con el acceso al equipo analítico del laboratorio crítico disponible dentro de CNSE, forma una piedra angular importante en proporcionar a capacidades avanzadas mundo-de cabeza de la metrología a nuestras piezas.”

“FEI es orgulloso suministrar SEMATECH nuestro altamente avanzado fulminante--TEM a la habitación del equipo de datos, que le ayudará para maximizar el volumen de proyección de imagen de alta resolución y el rendimiento de datos analítico para los dispositivos de semiconductor de la generación siguiente,” dijo a Rudy Kellner, vicepresidente y director general de la División de la Electrónica de FEI. “Utilizando haber automatizado, solución de la preparación de la muestra de la alto-producción CLM+™ TEM, combinada con la laminilla de TEMLink de FEI levante el sistema, SEMATECH podrá producir una fuente constante de la laminilla de alta calidad de TEM para su Titán TEM. Equipado del nuevo casquillo de la muestra de la doble-inclinación de MultiLoader, el Titán TEM logra un nivel de conectividad sin precedente a través de la transferencia asegurada, segura, y detectable de la activação de las plataformas del sistema de la muestra.”

TEM Analítico se ha utilizado históricamente para la investigación básica en el revelado de los materiales avanzados. Sin Embargo, como los dispositivos electrónicos se acercan a la escala del nanómetro, los defectos que consisten en incluso algunos átomos llegan a ser críticos. La combinación de TEM y de ANGUILAS es únicamente potente en que proporciona a la información detallada sobre la estructura física, la ordenación atómica, la vinculación química, la densidad, y el comportamiento electrónico en una escala del nanómetro. El resultado es un perfil mucho más completo de cada material que habría sido posible con un conjunto más pequeño de técnicas.

“La integración del TEM de FEI con las ANGUILAS es un candidato de cabeza para reemplazar EDX SEM-basado para el análisis elemental en línea de los defectos para el nodo 45nm y abajo,” dijo Brad Thiel, el Profesor Adjunto de CNSE de Nanoscience y al Director del Programa de Revelado Avance de la Metrología de SEMATECH en el UAlbany NanoCollege. “Damos la bienvenida a la calidad de miembro de FEI, y observamos hacia adelante a su participación mientras que trabajamos juntos para impulsar el revelado de procesos, de materiales, y de las tecnologías de la caracterización que son críticas para el progreso y el liderazgo continuados en la fabricación del nanoscale.”

“Estamos satisfechos dar la bienvenida a FEI a la lista de personal cada vez mayor de las compañías industria-de cabeza contratadas a la investigación y desarrollo punta del nanoelectronics en el UAlbany NanoCollege,” dijo a Richard Brilla, vicepresidente para la estrategia, las alianzas y los consorcios en CNSE. “Este lazo colaborativo con FEI más futuro demuestra el éxito de la sociedad de SEMATECH-CNSE en las innovaciones acelerantes del nanoscale, utilizando promoviendo la educación, y fomentando desarrollo económico de alta tecnología, que subrayan el reconocimiento de Nueva York como arranque de cinta global en nanotecnología.”

La Integración de nuevos materiales en los dispositivos de semiconductor requiere técnicas analíticas avanzadas de la caracterización tales como las capacidades de alta resolución de la proyección de imagen permitidas por TEM. La tecnología de la BOLA se adapta únicamente para preparar muestras ultrafinas de TEM incluso de las características más pequeñas del dispositivo.

El Programa de Revelado Avance de la Metrología de SEMATECH en el UAlbany NanoCollege es que evalúa y que desarrolla las nuevas tecnologías de la caracterización que dirigirán separaciones actuales y proyectadas de la metrología. “Nuestra meta es desarrollar técnicas de la caracterización y las metodologías para dirigir un rango de ediciones, incluyendo la metrología para las películas, defectos, y las estructuras 3D,” dijo a Thiel.

Last Update: 13. January 2012 22:37

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