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Colaboração Para Endereçar a Análise Elementar Inline dos Defeitos para o Nó 45nm e Além

Published on July 13, 2009 at 8:12 AM

Empresa de FEI, (NASDAQ: FEIC), um fornecedor principal de sistemas da imagem lactente e de análise da atômico-escala, e SEMATECH, o consórcio global de fabricantes de chips, anunciado hoje que a Empresa de FEI se juntou ao Programa de Revelação Avançado da Metrologia de SEMATECH na Faculdade da Ciência de Nanoscale e da Engenharia (CNSE) da Universidade em Albany. A colaboração expandirá em esforços conjuntos actuais para a revelação de tecnologias novas para permitir controle de processos melhorado e o rendimento.

Como um membro deste programa, FEI colaborará com os peritos em divisões da Metrologia de SEMATECH para desenvolver capacidades de alta resolução da análise da microscopia de elétron (TEM) de transmissão, com espectroscopia de perda de energia do elétron (EELS) e tecnologia focalizada do feixe (FIB) de íon para endereçar necessidades críticas na revelação de processo e na análise de defeito. Estas ferramentas fornecerão a imagem lactente de alta resolução e os dados compositivos na escala de alguns nanômetros, que é inestimável para a análise de defeito.

“O Programa da Metrologia da Revelação Avançada é um excelente exemplo do modelo colaborador de SEMATECH em que os fabricantes principais do equipamento e dos materiais podem participar em uma parceria mais larga da consórcio-universidade-indústria para desenvolver técnicas pioneiros da metrologia e da caracterização,” disse John Warlaumont, vice-presidente de SEMATECH da tecnologia. “O esforço colaborador entre pesquisadores e coordenadores da mundo-classe de FEI, SEMATECH e CNSE, junto com o acesso ao equipamento analítico do laboratório crítico disponível dentro de CNSE, forma uma pedra angular importante em fornecer capacidades avançadas mundo-principais da metrologia a nossos membros.”

“FEI é orgulhoso fornecer SEMATECH com nosso altamente avançado bolacha--TEM à série do equipamento de dados, que o ajudará a maximizar o volume de imagem lactente de alta resolução e a saída de dados analítica para dispositivos de semicondutor da próxima geração,” disse Rudy Kellner, vice-presidente & director geral da Divisão da Eletrônica de FEI. “Utilizando automatizada, solução da preparação da amostra da alto-produção CLM+™ TEM, combinada com o lamella do TEMLink de FEI levante o sistema, SEMATECH poderá produzir uma fonte constante do lamella de alta qualidade de TEM para seu Titã TEM. Equipado com o suporte novo da amostra da dobro-inclinação de MultiLoader, o Titã TEM consegue um nível de conectividade inaudita através de transferência segura, segura, e rastreável da possibilidade das plataformas do sistema da amostra.”

TEM Analítico foi usado historicamente para a investigação básica na revelação dos materiais avançados. Contudo, como os dispositivos electrónicos aproximam a escala do nanômetro, os defeitos que consistem mesmo em alguns átomos tornam-se críticos. A combinação de TEM e de ENGUIAS é excepcionalmente poderosa que fornece a informações detalhadas sobre a estrutura física, o regime atômico, a ligação química, a densidade, e o comportamento eletrônico em uma escala do nanômetro. O resultado é um perfil muito mais completo de cada material do que seria possível com um grupo menor de técnicas.

“A integração do TEM de FEI com ENGUIAS é um candidato principal para substituir EDX SEM-baseado para a análise elementar inline dos defeitos para o nó 45nm e abaixo,” disse Brad Thiel, o Professor Adjunto de CNSE de Nanoscience e o Director do Programa de Revelação Avançado da Metrologia de SEMATECH no UAlbany NanoCollege. “Nós damos boas-vindas à sociedade de FEI, e olhamos para a frente a sua participação enquanto nós trabalhamos junto para conduzir a revelação dos processos, dos materiais, e das tecnologias da caracterização que são críticas para o progresso e a liderança continuados na fabricação do nanoscale.”

“Nós somos satisfeitos dar boas-vindas a FEI à lista crescente de empresas líder de mercado contratadas na investigação e desenvolvimento pioneiro do nanoelectronics no UAlbany NanoCollege,” disse Richard Brilla, vice-presidente para a estratégia, as alianças e os consórcios em CNSE. “Este relacionamento colaborador com o FEI mais adicional demonstra o sucesso da parceria de SEMATECH-CNSE em inovações de aceleração do nanoscale, apoiando abrindo caminho a educação, e promovendo o crescimento econômico da alto-tecnologia, que o reconhecimento de New York do relevo como um líder global na nanotecnologia.”

A Integração de materiais novos em dispositivos de semicondutor exige técnicas analíticas avançadas da caracterização tais como as capacidades de alta resolução da imagem lactente tidas recursos para por TEM. MENTIR a tecnologia é serido excepcionalmente preparando amostras ultrathin de TEM mesmo das características as menores do dispositivo.

O Programa de Revelação Avançado da Metrologia de SEMATECH no UAlbany NanoCollege é de avaliação e desenvolvendo as tecnologias novas da caracterização que endereçarão diferenças actuais e projetadas da metrologia. “Nosso objetivo é desenvolver técnicas da caracterização e as metodologias para endereçar uma escala das edições, incluindo a metrologia para filmes, defeitos, e estruturas 3D,” disse Thiel.

Last Update: 13. January 2012 22:33

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