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合作,以解決 45nm節點及以後的內聯元素分析缺陷

Published on July 13, 2009 at 8:12 AM

原子級成像和分析系統的領導廠商FEI公司(納斯達克股票代碼:FEIC和SEMATECH聯盟,該芯片製造商全球財團,日前宣布,FEI公司已加入納米科學與工程學院SEMATECH的高級計量發展計劃(CNSE)的奧爾巴尼大學。此次合作將擴大對新技術的發展目前的共同努力,使改進的過程控制和產量。

作為這項計劃的成員,費將合作在SEMATECH的計量部門的專家深入傳輸電子顯微鏡(TEM)分析與電子能量損失光譜(ELES)和集中離子束(FIB)技術,高分辨率的能力,以解決關鍵在發展過程及缺陷分析的需要。這些工具將提供幾納米的規模,這是非常寶貴的缺陷分析上的高分辨率成像和成分數據。

“的高級發展計量計劃 SEMATECH的協作模型中,領先的設備和材料製造商可以參加一個更廣泛的財團,大學,產業合作夥伴關係發展前沿的計量和表徵技術的典範,”說約翰說 Warlaumont,SEMATECH聯盟副總裁技術“費,SEMATECH聯盟和CNSE,一起進入關鍵的實驗室分析設備內 CNSE的世界一流的研究人員和工程師之間的協作努力,形成我們的會員提供世界領先的先進的測量能力的重要基石。”

“飛自豪地供應 SEMATECH聯盟與我們的高度先進的晶圓 TEM數據設備套件,這將有助於他們最大限度地發揮高分辨率成像和分析數據,為下一代半導體器件的輸出量,說:”魯迪凱爾納,副總裁兼FEI公司電子部的經理。 “利用自動化,高通量CLM +™TEM樣品製備解決方案,結合費的TEMLink薄板解除了系統,SEMATECH聯盟將其泰坦的TEM能夠生產的穩定供應高品質的TEM薄片。與新MultiLoader雙傾斜樣品架裝備,泰坦的TEM,達到了前所未有的連接跨系統平台,實現安全,可靠,可追溯的樣品傳輸的水平。“

透射電鏡分析歷來用於基礎研究發展的先進材料。然而,作為電子設備的方法在納米尺度,甚至幾個原子組成的缺陷成為關鍵。 TEM和能源效益標籤計劃的組合是獨一無二的強大,它提供了有關的物理結構,原子排列,化學鍵,密度,並在納米尺度上的電子行為的詳細信息。結果是一個更完整的配置文件,每一個比一個較小的技術可能的材料。

“一個領先的候選人來取代內聯元素分析,在45nm節點上的缺陷,並在下面的掃描電鏡,基於 EDX FEI的與能源效益標籤計劃的TEM的整合,”說布拉德泰爾,CNSE的納米科學和主任SEMATECH的高級計量發展計劃助理教授在在UAlbany NanoCollege。 :“我們歡迎費的成員,並期待著他們的參與,我們共同努力,以推動發展,工藝,材料和表徵技術的不斷進步和納米製造領導的關鍵。”

“我們非常高興地歡迎費的越來越多的行業領先的公司在從事尖端納米電子學的研究和發展在UAlbany NanoCollege名冊,說:”理查德Brilla,在CNSE副總裁戰略,聯盟和財團。 “這與翡翠的協作關係,進一步證明了成功的SEMATECH聯盟 - CNSE合作夥伴關係,加速納米創新,支持創業教育,培養高科技的經濟增長,所有這些都強調紐約作為一個在全球領先的納米技術的認可。”

到半導體器件,新材料的集成需要先進的分析表徵技術,如通過 TEM帶來的高清晰度成像能力。的FIB技術是唯一適用於超薄透射電鏡樣品製備,即使是最小的的設備功能。

Last Update: 12. October 2011 00:20

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