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Configuration Accrue par Offres De Pas Fidelity de ZÉRO et Rendement Amélioré au Coût de Fabrication Inférieur

Published on July 13, 2009 at 9:13 AM

Le Groupe d'EV (EVG), un principal fournisseur de matériel de métallisation et de lithographie de disque pour le MEMS, nanotechnologie et marchés de semi-conducteur, ont aujourd'hui dévoilé sa phase de la lithographie d'UV-nanoimprint (UV-NIL) et système de la deuxième génération de répétition--EVG770 ZÉRO de la GEN II De Pas. Les capacités neuves de fonctionnalités du système ont conçu pour adresser des requêtes du client croissantes pour la fidélité améliorée de configuration à de jamais-petites densités de caractéristique technique, une fiabilité de processus plus grande et ont augmenté l'exactitude.

Commentant sur l'annonce d'aujourd'hui, Directeur Exécutif de la Technologie d'EVG, Paul Lindner, remarquable, « Nous avons été en activité sur le marché de lithographie de nanoimprint pour plus qu'une décennie maintenant, et avons vu la technologie évoluer de ses jours dans la R&D à la réalité de fabrication. Pour faire partie d'activer la lithographie de la deuxième génération--et satisfaisant les besoins de nos abonnées--excite vraiment pour la compagnie des voies innombrables. » Lindner Ajouté, « L'introduction de l'EVG770 renforce l'engagement de la société à notre triple « que je » philosophie de invente, innove et mets en application--fournir à nos abonnées une solution hautement flexible pour répondre à leurs besoins de R&D et de production. Nous attendons avec intérêt des opportunités prolongées de fonctionner attentivement avec nos abonnées pour leurs besoins de ZÉRO. »

Gestionnaires du Marché

La lithographie de Nanoimprint a monté pour aller bien à un candidat compétitif pour la lithographie de la deuxième génération (NGL) due à ses avantages de haute résolution et rentables. Le potentiel de la technologie a été reconnu par de principaux experts, et ajouté au Calendrier de lancement International de Technologie pour les Semi-conducteurs (ITRS) comme un outil estimatif de NGL pour micro et nanoelectronics au noeud de 32 nanomètre et au-delà.

Un des marchés principaux pilotant l'adoption d'UV-NIL est l'arène de micro-blocs optiques, qui emploie les objectifs principaux pour développer les estampilles fonctionnantes pour le micro-moulage de lentille de plein-disque des Capteurs d'image cmos pour les appareils-photo disque disque, notamment. Augmentant des procédés en pas à pas traditionnels, la phase d'EVG et l'élan de répétition permet à des constructeurs de produire un maître qui peut alors être reproduit en travers du substrat pour produire ultérieurement un micro-moulage de lentille de plein-disque. Cet élan offre des avantages significatifs de rendement et de coût comparés aux procédés de maîtrise conventionnels, tels que des techniques micromachining (par exemple, perçage de diamant), le ré-écoulement de vernis photosensible, le LIGA et l'écriture d'e-poutre.

En plus des Capteurs d'image cmos, il y a potentiel significatif du marché pour ZÉRO d'EVG de pas dans d'autres applications de la microélectronique, des procédés y compris des alignements de micro-lentille, des guides d'ondes, des résonnateurs de sonnerie, ainsi que de R&D nanoelectronics pour de doubles trous de Damascène et de contact.

Fonctionnalités Clé EVG770 et Avantages

Certaines des nouvelles fonctionnalités clé les démarcheurs EVG770 comprennent l'aspirateur imprimant sur a tourner-sur la couche de polymère, qui élimine des délivrances de défaut provoquées par les bulles d'air enfermés--éventuel ayant pour résultat la fidélité supérieure de configuration. Avec ces capacités neuves, les délivrances de pas de palans de ZÉRO d'EVG faites face par l'autre UV-NIL s'approche dans à quels environnements sans aspirateur et résiste sont dispensés comme gouttelettes plutôt que pré-tournées, qui entraînent les déroutements d'air faciles et influencent l'intégrité structurelle.

Supplémentaire, les fonctionnalités du système de la deuxième génération d'EVG :

  • Senseurs Optiques qui alignent l'estampille et le disque dans le parallélisme parfait pour la compensation sans contact de clavette
  • Mouvement de Mandrin par l'intermédiaire d'un système de non contact de roulement pour réduire la contamination de particules
  • Système À Haute Précision de cadrage avec l'exactitude dans +/--500 nanomètre ; <35-nm overlay="" alignment="" accuracy="" has="" already="" been="" demonstrated="" on="" a="" test="" set-up="" system="">
  • la mesure de Charge-Cellule de la force, d'améliorer l'uniformité d'empreinte et la fiabilité de procédé dues au contrôle de force d'active et de tenir compte du temps réel, caractérisation in-situ de disponible dans le commerce varié résiste et d'anti-coller d'embossing/de-embossing des couches
  • Niveaux Flexibles d'automatisation de matériel, rendant ZÉRO De Pas, un passage facile et économique à partir de la R&D à la fabrication de petite taille- ou à fort débit
  • Facteur de forme De facto de descripteur pour diminuer le temps de retournement de fabrication
  • La Capacité pour supporter un hôte de disponible dans le commerce résiste avec des viscosité variables entre 1 à plusieurs 1.000 mPas, améliorant la souplesse de processus pour le moulage micro et nanopatterning

EVG a été en activité dans UV-NIL depuis 1997, et a depuis fonctionné avec les partenaires de l'entreprise variés et les institutions de R&D pour développer des technologies nanoimprinting. Les activités Récentes d'UV-NIL comprennent une commande de Fraunhofer IOF annoncé en mai 2009.

L'EVG770 est disponible immédiatement pour l'achat. Pour plus d'information ou pour apprendre plus au sujet de l'EVG770 et d'autres solutions de ZÉRO d'EVG, visitez s'il vous plaît www.evgroup.com.

Last Update: 16. January 2012 23:40

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