Teste Padrão Aumentado Fidelity do NADA Ofertas Deslizantes e Rendimento Melhorado a Mais Baixos Custos De Fabrico

Published on July 13, 2009 at 9:13 AM

O Grupo de EV (EVG), um fornecedor principal do equipamento da ligação e da litografia da bolacha para o MEMS, nanotecnologia e mercados do semicondutor, revelaram hoje seus etapa da litografia da próxima geração (UV-NIL) e sistema Uv-nanoimprint da repetição--EVG770 o NADA do Gen II Deslizante. As capacidades novas das características de sistema projectaram endereçar procuras dos clientes crescentes para a fidelidade melhorada em umas densidades nunca-mais pequenas da característica, maior confiança do teste padrão do processo e aumentaram a precisão.

Comentando no anúncio de hoje, o Director Executivo da Tecnologia de EVG, Paul Lindner, notável, “Nós fomos activos no mercado da litografia do nanoimprint para mais do que uma década agora, e vimos a tecnologia evoluir de seus dias no R&D à realidade de fabricação. Para ser parte de permitir a litografia da próxima geração--e endereçando as necessidades dos nossos clientes--é verdadeiramente emocionante para a empresa em maneiras inumeráveis.” Lindner Adicionado, “A introdução do EVG770 reforça o comprometimento da empresa nosso triplicar-se “que eu” filosofia de invento, inovo e executo--fornecendo nossos clientes uma solução altamente flexível para cumprir suas exigências do R&D e da produção. Nós olhamos para a frente às oportunidades continuadas de trabalhar pròxima com nossos clientes para suas necessidades do NADA.”

Motoristas do Mercado

A litografia de Nanoimprint aumentou para assentar bem em um candidato competitivo para a litografia da próxima geração devido a suas vantagens de alta resolução e eficazes na redução de custos. O potencial da tecnologia foi reconhecido por peritos principais, e adicionado ao Mapa Rodoviário Internacional da Tecnologia para os Semicondutores (ITRS) como uma ferramenta em perspectiva de NGL para micro e nanoelectronics no nó de 32 nanômetro e além.

Um dos mercados principais que conduzem a adopção de UV-NIL é a arena dos micro-sistemas óticos, que utiliza as lentes mestras para desenvolver selos de trabalho para o micro-molde da lente da completo-bolacha de sensores da imagem do CMOS para câmeras do bolacha-nível, entre outros. Aumentando processos de uma etapa tradicionais, a etapa de EVG e a aproximação da repetição permitem fabricantes de criar um mestre que possa então ser replicated através da carcaça para produzir subseqüentemente um micro-molde da lente da completo-bolacha. Esta aproximação oferece as vantagens significativas do rendimento e do custo comparadas aos processos de domínio convencionais, tais como técnicas micromachining (por exemplo, perfuração do diamante), reflow do fotoresistente, LIGA e escrita do e-feixe.

Além do que sensores da imagem do CMOS, há um potencial significativo do mercado para o NADA de EVG deslizante em outras aplicações da microeletrônica, incluindo disposições da micro-lente, medidores de ondas, ressonadores do anel, assim como de nanoelectronics do R&D processos para furos duplos do damascene e do contacto.

Características EVG770 Chaves & Benefícios

Algumas das características novas chaves as candongas EVG770 incluem o vácuo que imprime na girar-na camada do polímero, que elimina as edições do defeito causadas por bolhas de ar prendidas--finalmente tendo por resultado a fidelidade superior do teste padrão. Com estas capacidades novas, as edições deslizantes dos equipamentos do NADA de EVG enfrentadas pelo outro UV-NIL aproximam-se em que ambientes do vácuo-menos e resiste são dispensados como as gotas um pouco do que pre-giradas, que causam armadilhas de ar fáceis e impactam a integridade estrutural.

Adicionalmente, características de sistema da próxima geração de EVG:

  • Sensores Ópticos que alinham o selo e a bolacha no paralelismo perfeito para a compensação contacto-livre da cunha
  • Movimento do Mandril através de um sistema do rolamento do não-contacto para reduzir a contaminação da partícula
  • Sistema do alinhamento da Elevada precisão com precisão dentro +/--500 nanômetro; <35-nm overlay="" alignment="" accuracy="" has="" already="" been="" demonstrated="" on="" a="" test="" set-up="" system="">
  • a medida da Carga-Pilha da força, de melhorar a uniformidade da impressão e a confiança do processo devido ao controle de força activa e de permiti-los o tempo real, caracterização in situ de vário disponível no comércio resiste e de anti-colar de embossing/de-embossing camadas
  • Níveis Flexíveis da automatização do equipamento, fazendo o NADA Deslizante, uma transição fácil e econômica do R&D à fabricação pequeno- ou do volume alto
  • Factor de formulários De facto do molde para encurtar o tempo de resposta da fabricação
  • A Capacidade para apoiar um anfitrião de disponível no comércio resiste com viscosidades de variação entre 1 a diversos 1.000 mPas, melhorando a flexibilidade do processo para o micro molde e nanopatterning

EVG foi activo em UV-NIL desde 1997, e trabalhou desde com os vários sócios da indústria e as instituições do R&D para desenvolver tecnologias nanoimprinting. As actividades Recentes de UV-NIL incluem um pedido de Fraunhofer IOF anunciado em maio de 2009.

O EVG770 está disponível imediatamente para a compra. Para mais informação ou para aprender mais sobre o EVG770 e outras soluções do NADA de EVG, visite por favor www.evgroup.com.

Last Update: 13. January 2012 22:33

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