無步進信息,在降低製造成本增加圖案逼真,提高產量

Published on July 13, 2009 at 9:13 AM

EV集團(EVG) ,MEMS,納米技術和半導體市場的晶圓鍵合和光刻設備的領先供應商,今天宣布推出其下一代的紫外線壓印光刻(UV - NIL)分步重複系統- EVG770第二代無步進。新的系統功能的能力,旨在滿足客戶不斷增長的改善圖案逼真更小的功能密度,提高過程的可靠性和更高的精度要求。

在評論今天的發布,EVG的執行技術總監,保羅林德納,指出:“我們已經得到的納米壓印光刻技術市場的活躍十多年以來,和已看到的技術其天在R&D演變製造業的現實。為了將一部分使下一代光刻技術 - 和解決客戶的需求 - 公司在無數的方式真正令人興奮的“。新增林德納,“引進的EVG770加強該公司的承諾,以我們的三重”我的發明理念,創新和落實 - 我們的客戶提供一個高度靈活的解決方案滿足他們的ř&ð和生產要求我們期待繼續的機會。與他們無需要我們的客戶密切合作。“

市場驅動力

納米壓印光刻技術已經上升到成為競爭力的候選人為下一代光刻(NGL)由於其高的分辨率和成本效益優勢。由著名專家已承認該技術的潛力,並已添加為微型和納米電子學的液化天然氣作為未來的工具,在32納米節點和超越國際半導體技術藍圖(ITRS)。

駕駛無紫外線收養的主要市場之一,是微光學的舞台上,利用開發工作的全晶圓鏡頭微成型CMOS圖像傳感器的晶圓級相機等等,郵票的主鏡片。擴充傳統的單步進程,EVG的分步重複的方法,使製造商能夠創建,然後可以在整個基板複製到後來產生一個完整的晶圓鏡頭微型模具的主。這種方法提供了顯著的產量和成本優勢相比,傳統的掌握過程,如微機械加工技術(如金剛石鑽探),光致抗蝕劑回流,西甲和電子束直寫。

除了CMOS圖像傳感器,有顯著 EVG的無步進市場潛力在其他微型電子應用,包括微透鏡陣列,波導,環諧振器,以及雙鑲嵌和接觸孔研發納米電子學的過程。

EVG770主要特點與優勢

一些關鍵的新功能包括真空印跡上一個 EVG770吹捧紡聚合物層,從而消除了氣泡造成的缺陷問題 - 最終在優越的圖案逼真。隨著這些新功能,EVG無步進解決其他UV - NIL在真空環境和抗拒是配發的水滴,而不是前紡,造成空氣中的陷阱和影響結構完整性的方法所面臨的問題。

此外,EVG的下一代系統的特點:

  • 成完美的並行排列的無接觸式楔形補償的郵票和晶圓的光學傳感器
  • 查通過非接觸式軸承系統的運動,以減少顆粒污染
  • 高精度定位系統精度在+ / -500納米,35納米覆蓋對準精度已被證實對測試設置系統
  • 負載單元的測量壓花 / DE壓印力,提高印記的統一性和過程的可靠性,由於活躍的力量控制,並允許實時,抵制各種市售的原位表徵和防粘層
  • 靈活的設備的自動化水平,使無步進容易和經濟的過渡,從 R&D小或大批量製造
  • 事實上模板形式的因素,縮短製造周轉時間
  • 支持市售的主機抵抗能力1至數千海洋保護區具有不同粘度,改善微成型過程中的靈活性和nanopatterning

EVG自1997年以來一直活躍在UV - NIL以來與各行業合作夥伴和研發機構,開發奈米技術的工作。最近的UV - NIL活動包括2009年5月宣布從弗勞恩霍夫法語國家國際組織的順序。

Last Update: 15. October 2011 20:36

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