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SI マガジンによって著名なエディターの上等の最もよい製品賞と名誉を与えられる応用 SEMVision G4 の欠陥分析のプラットホーム

Published on July 15, 2009 at 7:57 PM

応用 SEMVision™ G4 の欠陥分析のプラットホームが半導体インターナショナルマガジンによって著名なエディターの上等の最もよい製品賞と名誉を与えられたことを Applied Materials、 Inc. は今日 (SI)発表しました。 革新的な技術および生産証明されたパフォーマンスの勝利組合せは選択の SEMVision G4 のプラットホームに 32nm のための欠陥の検討のツールにおよび向こう規則を設計させます。

革新的な技術および生産証明されたパフォーマンスは選択の SEMVision 応用 G4 のプラットホームに 32nm のための欠陥の検討のツールにおよび向こう規則を設計させます。 (写真: ビジネスワイヤー)

「エディター上等の最もよい製品賞プログラム製品、材料を認め、製造業界で証明されるサービス」、はローラ Peters、半導体インターナショナルの編集長を言いました。 「評価プロセス、 SI のエディターで製品をフィールドの実際の顧客からのフィードバックに基づいて考慮すれば最も強く推奨された物だけ毎年名誉を与えられます」。

「この賞半導体工業で SEMVision の途方もない影響によって適用される技術を持っていました認識します」、はトム St. デニス、上席副社長および応用材料のの総務部長を」ケイ素システムグループ言いました。 「SEMVision G4 システム例外的な画像の品質および先端材料の分析の機能です収穫殺害の欠陥の根本的原因を理解し、軽減するのをチップメーカーが助ける強力なツール」。は

欠陥の検討の SEMVision 応用システムは最先端の検討アプリケーションのために、致命的欠陥の自動欠陥の redetection (ADR) そして自動欠陥の分類 (ADC)が可能設計されています。 SEMVision 1 欠陥每第 2 の基準の検討のレートで無比の画像の (SEM)品質のための最新式 2nm 物理的な解像度を提供する G4 の技術の主要特点は新しい走査型電子顕微鏡のコラムおよび高められた複数の見通し SEM イメージ投射システムです。

1998 年に応用 SEMVision のシステムによって開拓される自動欠陥の検討は、方法 fabs を革命化して欠陥情報を検出し、分析します。 過去 10 年間、 SEMVision の技術はカスタマ・サイトで世界的にインストールされる 700 のシステム上のを企業に機能の可能にに、与えました。 これは 2000 年に SEMVision 最初のシステムおよび 2005 年に SEMVision G2 の他愛ない嘘との継続にはじまって SEMVision の応用技術のための第 3 SI 賞、です。

Applied Materials、 Inc. (NASDAQ: AMAT は) 革新的な装置の広いポートフォリオが付いている Nanomanufacturing Technology™の解決の全体的なリーダー、半導体チップの製造のためのサービスおよびソフトウェア製品、フラットパネルディスプレイ、太陽光電池、適用範囲が広い電子工学およびエネルギー効率が良いガラスです。 応用材料で、私達は生きている方法人々を改良するために Nanomanufacturing の技術を適用します。

Last Update: 13. January 2012 20:17

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