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荣获“享有盛誉的编辑选择最佳产品奖由SI杂志应用SEMVision G4缺陷分析平台

Published on July 15, 2009 at 7:57 PM

应用材料公司今天宣布,其应用SEMVision™G4的缺陷分析平台已经荣获“著名的编辑选择最佳产品奖”半导体国际(SI)的杂志。创新的技术和生产验证的性能胜出组合的SEMVision G4平台的32纳米设计规则和超越的缺陷审查工具选择。

创新的技术和生产验证的性能,应用SEMVision G4平台的32纳米设计规则和超越的缺陷审查工具的选择。 (照片:美国商业资讯)

“”编辑选择最佳产品奖“计划的承认是在制造环境中证明的产品,材料和服务,”劳拉说,彼得斯,国际半导体首席主编。 “在评标过程中,SI的编辑们考虑产品的基础上在该领域的实际客户的反馈意见,每年只有最强烈推荐的荣幸。”

“这个奖项肯定了应用的SEMVision技术对半导体产业的巨大影响,”汤姆说,圣丹尼斯,应用材料硅系统集团高级副总裁和总经理。 “SEMVision G4系统的卓越的图像质量和先进的材料分析功能强大的工具,以帮助芯片制造商了解和减轻产量杀缺陷的根源。”

应用缺陷审查SEMVision系统设计最先进的审查申请,能够自动缺陷重新检测(ADR)和自动缺陷分类(ADC)的关键缺陷。的SEMVision G4技术的主要特点是其新的扫描电子显微镜(SEM)列和增强的多视角SEM成像系统,提供了一个基准检讨率2nm的国家的最先进的物理分辨率无与伦比的图像质量缺陷每秒。

应用SEMVision系统在1998年率先推出自动缺陷检讨,彻底改变了工厂的检测和分析的缺陷信息的方式。在过去的十多年中,SEMVision技术提供了有利的能力,行业,系统安装在世界各地的客户站点的700多名。这是第三的SI应用的SEMVision技术奖,在2000年第一SEMVision系统开始,并在2005年继续与SEMVision G2 FIB表。

应用材料公司(纳斯达克股票代码:AMAT)是全球领先的纳米技术™解决方案的广泛产品组合的创新设备,服务和软件产品,用于制造半导体芯片,平板显示器,太阳能光伏电池,柔性电子产品和能源高效玻璃。在应用材料公司用纳米制造技术改善人们的生活。

Last Update: 7. October 2011 22:06

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