Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Technical Sales Solutions - 5% off any SEM, TEM, FIB or Dual Beam
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
Posted in | Nanoanalysis | Nanobusiness

There is 1 related live offer.

5% Off SEM, TEM, FIB or Dual Beam

榮獲“享有盛譽的編輯選擇最佳產品獎由SI雜誌應用 SEMVision G4缺陷分析平台

Published on July 15, 2009 at 7:57 PM

應用材料公司今天宣布,其應用SEMVision™G4的缺陷分析平台已經榮獲“著名的編輯選擇最佳產品獎”半導體國際(SI)的雜誌。創新的技術和生產驗證的性能勝出組合的SEMVision G4平台的32納米設計規則和超越的缺陷審查工具選擇。

創新的技術和生產驗證的性能,應用 SEMVision G4平台的32納米設計規則和超越的缺陷審查工具的選擇。 (照片:美國商業資訊)

“”編輯選擇最佳產品獎“計劃的承認是在製造環境中證明的產品,材料和服務,”勞拉說,彼得斯,國際半導體首席主編。 “在評標過程中,SI的編輯們考慮產品的基礎上在該領域的實際客戶的反饋意見,每年只有最強烈推薦的榮幸。”

“這個獎項肯定了應用的SEMVision技術對半導體產業的巨大影響,”湯姆說,聖丹尼斯,應用材料矽系統集團高級副總裁和總經理。 “SEMVision G4系統的卓越的圖像質量和先進的材料分析功能強大的工具,以幫助芯片製造商了解和減輕產量殺缺陷的根源。”

應用缺陷審查 SEMVision系統設計最先進的審查申請,能夠自動缺陷重新檢測(ADR)和自動缺陷分類(ADC)的關鍵缺陷。的SEMVision G4技術的主要特點是其新的掃描電子顯微鏡(SEM)列和增強的多視角 SEM成像系統,提供了一個基準檢討率2nm的國家的最先進的物理分辨率無與倫比的圖像質量缺陷每秒。

應用 SEMVision系統率先在1998年自動缺陷檢討,徹底改變了工廠的檢測和分析的缺陷信息的方式。在過去的十多年中,SEMVision技術提供了有利的能力,行業,系統安裝在世界各地的客戶站點的700多名。這是第三的SI應用的SEMVision技術獎,在2000年第一SEMVision系統開始,並在2005年繼續與 SEMVision G2 FIB表。

應用材料公司(納斯達克股票代碼:AMAT)是全球領先的納米技術™解決方案的廣泛產品組合的創新設備,服務和軟件產品,用於製造半導體芯片,平板顯示器,太陽能光伏電池,柔性電子產品和能源高效玻璃。在應用材料公司用納米製造技術改善人們的生活。

Last Update: 7. October 2011 11:37

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit