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Arradiance खुलासा किया मणि-D2 परमाणु परत बयान प्रणाली

Arradiance आज अमेरिकन वैक्यूम सोसायटी की वार्षिक Monterey, CA में परमाणु परत बयान बैठक के अग्रिम में मणि-D2 परमाणु परत बयान ALD () प्रणाली का अनावरण किया. मणि-D2 के लिए लगभग किसी भी सब्सट्रेट पर सामग्री के atomically पतली परत जमा करने के लिए इस्तेमाल किया जा सकता है और सबसे चुनौतीपूर्ण उच्च पहलू अनुपात और के माध्यम से ताकना मन में बयान अनुप्रयोगों के साथ बनाया गया गया था.

नील सुलिवन, Arradiance के सीटीओ, "संवेदनशील, उच्च पहलू अनुपात microchannel संरचनाओं के साथ हमारे काम से, हम तीव्रता से एक प्रणाली है जिसमें हम repeatably और समान रूप से जटिल nanolaminate फिल्मों कुशलता से जमा सकता है के लिए जरूरत के बारे में पता बन गया" बताते हैं. "Functionalize एक MCP, फिल्मों को न केवल शारीरिक रूप रन से समान को चलाने के लिए, लेकिन यह भी विद्युत समान की जरूरत है यह असंभव है करने के लिए एक सूक्ष्म पैरामीट्रिक परिवर्तन कर अगर बेतरतीब ढंग से उपकरण के रूप में अच्छी तरह से बदल रहा है प्रयोग डिजाइन.

Arradiance प्रधान सामग्री वैज्ञानिक, फिलिप डी Rouffignac कहते हैं, "हम हमारे अपने अनुप्रयोगों है कि एकरूपता और पैरामीट्रिक नियंत्रण के लिए डिजाइन विकास की सफलता के लिए चाबियाँ हैं से सीखा हमारी अद्वितीय रिएक्टर और showerhead गैस वितरण प्रणाली और व्यक्तिगत अग्रदूत 3 चरण हीटिंग नियंत्रण हमें दे शक्ति और किसी भी जटिल फिल्म को संभाल करने के लिए लचीलापन. हम हमारे ALD 2009 पोस्टर प्रस्तुति, हार्वर्ड विश्वविद्यालय के डॉ. रॉय गॉर्डन के साथ सहयोग में लिखा के बारे में और अधिक विस्तार में इन फायदों की व्याख्या. "

Arradiance सीईओ केन Stenton, "हमारे सामग्री विज्ञान, चार्ज कण भौतिकी और सिस्टम डिजाइन में व्यापक अनुभव के लिए इंजीनियर है, जो अपने काम के बारे में गंभीर हैं के लिए वास्तव में एक मजबूत अनुसंधान प्रणाली बनाने के संयुक्त" कहते हैं. "जैव चिकित्सा, सौर, अंतरिक्ष विज्ञान, पर्यावरण और अर्धचालक के रूप में उभरते उद्योगों में वृद्धि सामग्री अनुसंधान के महत्व के कारण, हम उत्पादन प्रदर्शन और विश्वसनीयता के साथ एक अनुसंधान उपकरण के लिए की जरूरत है देखा हमें विश्वास है कि मणि-D2 को पूरा करेगा रहे हैं और. अधिक की जरूरत है कि. "

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