Arradiance推出創業板D2的原子層沉積系統

Published on July 17, 2009 at 1:21 AM

Arradiance今天宣布推出創業板- D2的原子層沉積(ALD)系統在美國真空學會的年度原子層沉積在Monterey,CA會議之前。創業板D2可用於幾乎任何基材上沉積材料的原子薄層,並與最具挑戰性的的高寬比,並考慮通過孔的沉積應用而設計的。

“從我們與敏感,高寬比微結構的工作,我們敏銳地意識到需要一個系統,在其中我們可以重複地和均勻有效存款複雜 nanolaminate電影”解釋說,尼爾沙利文Arradiance首席技術官。 “”功能化的MCP,電影需要不僅物理運行運行,而且電氣特性,這是不可能設計一個實驗,使細微的參數變化,如果該工具是隨機變化以及。

Arradiance主要材料科學家,菲利普 - Rouffignac補充說,“我們了解到,從我們自己的應用程序設計的統一性和參數控制,是發展成功的關鍵,我們獨特的反應堆和花灑氣體輸送系統和個人的易制毒化學 3級加熱控制給我們權力和靈活性,以處理任何複雜的電影,我們在2009年我們的ALD的海報介紹,哈佛大學的羅伊戈登博士合作編寫的,更詳細地解釋了這些優勢。“

肯Stenton,Arradiance首席執行官說,“我們已在材料科學,帶電粒子物理學和系統設計的廣泛經驗結合起來,使工程師們認真對待自己的工作的一個真正強大的研究系統”。 “由於在新興成長型產業,如太陽能,生物醫學,空間科學,環境和半導體材料研究的重要性,我們看到了與生產性能和可靠性的研究工​​具的需要,我們有信心將滿足創業板D2超過需要。“

Last Update: 7. October 2011 09:02

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit