公司公认的杰出贡献EUV光刻技术的基础地位

Published on July 20, 2009 at 6:15 AM

Energetiq科技公司,专门短波先进技术应用产品的开发商和制造商,已发出的EUV光刻技术在2009年国际研讨会杰出贡献奖,Energetiq EUV光源的优异性能,该公司的EUVL发展作出贡献。只有两个奖项在上周在夏威夷檀香山举行的研讨会 - Energetiq之一和其他EUV技术的发展,在他的一生事业成就的著名教授。

在奥尔巴尼大学教授格雷戈里Denbeaux颁发奖项的营销副总裁德博拉古斯塔夫森,在Energetiq销售。 Denbeaux教授说,“Energetiq使之有可能为研究人员有可靠的EUV技术光子EUV光刻技术成为现实,今天的研究大多是Energetiq EUV光源进行。”

古斯塔夫森补充说,“Energetiq很高兴获得这个奖项,我们很高兴,我们可以今天正在做的基础设施的发展作出贡献。此外,我们想感谢我们所有的客户,他们在这一领域的成功的工作。Energetiq计划继续其贡献与面具计量供应商的工作,以确保有一个可靠的EUV计量工具的源EUV光刻技术的成功实施。“

Energetiq的EQ - 10系列的EUV光源采用该公司专有的无极Z箍缩(TM)技术,并产生稳定的EUV光源,低拥有成本。无极源的设计被证明是连续运行,具有高度可重复的性能。 EQ - 10系列是安装在美国,欧洲和亚洲主要的EUV技术中心,是在先进的光致抗蚀剂的测试和资格,EUV光学测试,极紫外显微镜,并与引进的高重复率(最近使用10 kHz)的版本,在计量和研究中的应用需要模拟的HVM(大批量制造)。

Energetiq科技公司是先进的短波长光的产品,使纳米尺度的结构和产品的开发及制造商。 Energetiq团队结合其建筑坚固,工业和科技产品的长期经验短波光发电所需的高功率等离子体物理的深刻理解。其结果是,用户可以期望的性能最高水平最高的可靠性结合。

Last Update: 6. October 2011 16:18

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