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快速,易于使用的S / TEM显着提高半导体制造中应用的生产力

Published on July 20, 2009 at 8:52 AM

FEI公司(纳斯达克股票代码:FEIC) ,原子级成像及分析系统的领先供应商,今天宣布释放的Tecnai奥西里斯(TM)扫描/透射电子显微镜(S / TEM),提供革命性的分析速度和性能。它包括了费的新ChemiSTEM技术,从而降低了大场的视图元素映射从几小时到几分钟的时间。 Tecnai奥西里斯是设计出色的易用性的使用,以满足高容量的工业和多用户研究实验室的要求结合起来,这种分析吞吐量突破。

ChemiSTEM技术正在申请专利的,使Tecnai奥西里斯梁代的技术进步相结合,在EDX信号检测的破坏性的变化,能量色散X射线(EDX)元素映射的速度实现了50个或更多增强的因素。 Tecnai奥西里斯是建立在一个平台,旨在最大限度地提高生产力和投资回报高容量的分析。

托尼爱德华兹,FEI的市场部门的高级副总裁,补充说,“该Tecnai奥西里斯地址都我们的研究和谁的地方元素成分分析和所有样品的映射日益重要的工业客户的需求,但到现在为止,能不能找到一个S /透射电子显微镜所需的分析速度和易于使用,以支持这一要求。例如,新材料在半导体制造设备的大小和扩散的持续减少,更多的样品外观与未知的成分多用户研究设施驱动器需要一个S /透射电镜能谱分析易于使用提供了一个基本的映射速度媲美干成像。“

爱德华兹补充说,“Tecnai奥西里斯的目的是提供大领域,而不是几小时分钟的视图元素映射,而不需要高度复杂的分析训练的操作员,以填补这个市场目前的差距,这易于新SMARTCAM远程控制接口,让专家远程指导经验不足的运营商提供多用户或工业设施的使用,进一步延长。“

Tecnai线具有悠久的历史,作为在工业应用中的主力工具的性能和可靠性。该Tecnai奥西里斯200千伏(KV)的S /透射电镜,继续增加的众多技术创新的Tecnai传统,包括:ChemiSTEM,由专有的护送队X -高亮度电子源和超- X,FEI的新的能谱检测组成MultiLoader(TM)样品处理样品后交流热平衡时间减少10倍到数据的时间不相称的改善;;硅漂移探测器(SDD)技术为基础的系统和新的FS - 1电子能量损失谱仪,提高电子能量损失光谱(EELS)的速度和灵敏度,以及其他增强功能,如SMARTCAM远程控制摄像头,长寿命的液氮供应,多。

“当革命的分析速度,吞吐量和在一个可靠的,所有用途的S / TEM是关键,Tecnai奥西里斯是理想的解决方案,易于使用的”州爱德华兹。

Tecnai奥西里斯的S / TEM可立即订购。欲了解更多信息,请访问: www.fei.com

Last Update: 17. October 2011 04:19

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