Site Sponsors
  • Technical Sales Solutions - 5% off any SEM, TEM, FIB or Dual Beam
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

快速,易用 S/TEM 巨大增加在半導體製造應用的生產率

Published on July 20, 2009 at 8:52 AM

FEI 公司 (那斯達克:FEIC),基本縮放比例想像和分析系統一位主導的提供者,今天宣佈了 Tecnai Osiris (tm) 掃描/傳輸電子顯微鏡 (S/TEM) 的版本,提供革命分析速度和性能。 它包括 FEI 的新的 ChemiSTEM 技術,使大視野基本映射的時期降低從幾小時到分鐘。 Tecnai Osiris 被設計結合此突破分析處理量以例外易用符合大容積行業和多用戶研究實驗室的要求。

專利待定 ChemiSTEM 技術使 Tecnai Osiris 達到 50 種或更多改進系數在能源分散性 X-射線 (EDX) 基本映射的速度的,通過結合在射線生成的技術提升與在 EDX 信號檢測上的製造混亂的變化。 Tecnai Osiris 在被設計的平臺被編譯最大化生產率和回收投資在大容積分析。

托尼愛德華茲, FEI 的資深副總裁市場部門,補充說, 「Tecnai Osiris 處理在基本構成分析安置增長的重要性和映射所有範例我們的研究和行業客戶的需要,但是直到現在,找不到 S/TEM 以必需的分析速度和易用支持此需求。 例如,在設備新的材料的範圍和擴散的繼續的減少在半導體製造中和更多範例外觀與未知的構成的在多用戶研究所驅動需要對於提供 EDX 邏輯分析方法的易用 S/TEM 以一張基本映射的速度可比較與詞根想像」。

愛德華茲補充說, 「Tecnai Osiris 通過提供基本映射在市場上在分鐘設計填補此當前空白以大域視圖而不是幾小時和,不用需要對於運算符高度訓練在複雜邏輯分析方法。 此易用由新的 SmartCam 遙控界面進一步擴大,使專家提供在多用戶或行業設施的遠程指導給較没有經驗的運算符」。

Tecnai 線路有性能的一個悠久的歷史和可靠性作為耕馬工具在行業應用。 Tecnai Osiris,一 200 千伏 (kV) S/TEM,保持 Tecnai 傳統增加許多技術創新,包括: ChemiSTEM,包括所有權 X-FEG 高亮度電子來源和超X, FEI 的新的 EDX 檢測系統根據硅偏差探測器 (SDD)技術; MultiLoader (tm) 減少熱量平衡時間的範例處理,在範例在十次之前交換與在定期對數據後的比照改善; 并且改進電子能量損失光譜速度和區分的新的 FS-1 電子 (EELS)能量損失分光儀; 並且其他改進,例如 SmartCam 遙控照相機,長壽命液氮用品和多。

「當革命分析速度、處理量和易用在可靠,多用途 S/TEM 是重要的時, Tecnai Osiris 是理想的解決方法」,狀態愛德華茲。

Tecnai Osiris S/TEM 為立即預定是可用的。 對於更多信息,请請參觀: www.fei.com

Last Update: 24. January 2012 22:03

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit