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보조 향상되 마디 디자인과 한 모금은 양에 TSMC 가공 기술의 사용자를 위한 단단 시간을 전달합니다

Published on July 23, 2009 at 7:00 PM

Cadence Design Systems, Inc. (NASDAQ: CDNS), Cadence® Encounter® 디지털 실시 시스템 해결책의 그것 한 벌, 디자인 마감을 포함하여, DFM 저전력, 혼합 신호 및 방송 종료 기술, 뿐 아니라 시스템 에서 포장 TSMC 참고 교류 10.0에서 디자인 기술 포함된다는 것을 오늘 알려지는 글로벌 전자 디자인 혁신에 있는 지도자. 보조 대위에 있는 디자인 기능RTL 에 GDSII 디자이너를 가능하게 해 생성하는, 주조의 가장 진보된 제조공정을 위한 힘 능률적인 디자인 높 열매를 산출.

"교류 10.0 실행을 새로운 가공 기술을 위한 디자인 enablement에 있는 중요한 역할 참조 사항를 붙이십시오," S.T. Juang를 TSMC에 디자인 기반 매매의 고위 디렉터 말했습니다. "우리가 28 나노미터를."는 입력하기 때문에 필요한 공구 증진이 사전에 한다는 것을 보조를 가진 가까운 협력 지킵니다,

"오늘 가장 거친 디자인 도전을 최고 에서 종류 해결책 및 내일 동안 곡선 앞서서 솔루션 개발을 제공하는 것은 지속적인 혁신을 요구하고 우리의 고객 및 동업자와 가진 단단한 협력," 박사를 보조에 디지털 실시 연구와 개발의 부사장 말했습니다 Chi 핑 Hsu. "TSMC 도움으로 바싹 작동해서 저전력, 혼합 신호, 통합 DFM, 향상되 마디 및 방송 종료 기술에 있는 우리의 지도력을 지키고, RTL에서 마지막 실리콘에 완전한 예상할 수 있는 해결책을 제공하는 가능하게 합니다 보조를."

DFM, 디지털 실시 및 분석

참고 교류 10.0에 중요한 기여금은 기업의 도서관 세포와 SOC 디자인의 첫번째 문맥 알고 있는 전기 분석입니다. 상을 받은 보조 Litho 전기 해석기를 사용하여, 디자이너는 전기로 도서관 세포를 미조정하고 정확하게 그로 인하여 제품 품질을 증가하는 전기 긴장 효력을, 만들 수 있습니다. 추가적으로, Litho 계층적인 물리적인 해석기는 나노미터 수준 장치의 물리적인 manufacturability의 단단 분석을 일으킵니다. 이들 모두 유일한 DFM 기능은 실전 디지털 실시 시스템으로 통합 이어, 잠재적인 제조 문제점의 초기 디자인 단계 식별, 분석 및 수선을 허용하.

TSMC 참고 교류 10.0의 보조 대위의 밑에 커버된 그밖 변이 감소 기술은 통계적인 정체되는 시기를 정하는 분석, (SSTA) 배치 최적화, 향상된 시계 나무 분석 및 에 칩 변이 분석을 포함합니다. 이 기술 전부는 다중 처리기 기지를 둔 계산 플래트홈을 위한 철저한 지원을 통해서 극적으로 가속됩니다.

중요하게 디자이너 생산력을 밀어주고 전반적인 반환 시간을 가속하는 보조 NanoRoute® 대패에 건물, 보조 물리적인 결점 분석, 사실상 CMP 핫스팟 분석, 석판인쇄술 가공 검사, 향상된 가공에게 만들고, 및 기질 소음 분석을 포함하여 다른 다양한 DFM 기술을, 전달합니다. 이 기능 전부는 실전 디지털 실시 시스템으로 완전히 통합 최적화와 방송 종료 사이 가장 가까운 가능한 상호 관계를 허용하기 위하여 입니다.

향상된 저전력 디자인

보조는 전에 그것의 저전력 디자인 해결책을 2 년 이상 소개하고 TSMC 참고 교류 8.0로 즉각 그것의 특징을 통합했습니다. 그 이후로, 보조는 Si2 일반적인 힘 체재, 펄스 래치 및 이중 툭 떨어뜨림 해결책을 위한 계층적인 지원을 포함하여 새로운 기능 (CPF)에 그것의 저전력 해결책을, 경신했습니다. 보조 저전력 해결책은 또한 실전 디지털 실시 시스템으로 이음새가 없 통합되기 때문에, 저전력 디자인을 소유권의 저가 및 사용하기 편한 디자인 환경을 제공합니다.

Last Update: 14. January 2012 02:24

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