Os Gráficos do Mentor Expandem as Ferramentas e as Tecnologias Incluídas no Fluxo 10,0 da Referência do TSMC

Published on July 23, 2009 at 8:18 PM

Mentor Gráficos Corporaçõ (NASDAQ: MENT) anunciou hoje que expandiu o grupo de ferramentas e de tecnologias do Mentor incluídas no Fluxo 10,0 da Referência do TSMC. Os apoios expandidos da trilha de Mentor® avançaram a verificação funcional para CI complexos, netlist--GDSII à aplicação para 28nm CI, uma integração mais apertada com a verificação física ubíquo de Calibre® e plataforma de DFM, e ferramentas para o diagnóstico ciente da falha do teste da disposição. Além, esta trilha recentemente introduzida do Mentor igualmente endereça o projecto da baixa potência com as ferramentas do Mentor para a verificação funcional, a aplicação do IC e o teste do IC.

Do “os Gráficos Mentor continuam a expandir suas ofertas do Fluxo da Referência para cobrir o ciclo de projecto total do IC do nível de sistemas através da verificação funcional, da lugar-e-rota, da verificação física e do teste do silicone, assim como soluções novas de oferecimento tais como a baixa potência, a variabilidade de fabricação, e a análise do rendimento do silicone,” disse S.T. Juang, director superior do Mercado da Infra-estrutura do Projecto no TSMC.

A trilha 10,0 do Mentor do Fluxo da Referência fornece capacidades novas em muitas áreas, incluindo a primeira solução da aplicação do Mentor no Fluxo da Referência do TSMC, o sistema da lugar-e-rota de Olympus-SoC™. Para aplicação avançada do IC, o sistema Olympus-SoC tem características novas endereçar a variação da em-microplaqueta, o roteamento 28nm e o projecto da baixa potência:

  • Análise fase-baseada Avançada e optimização de OCV - Ajustando OCV fase-baseado diferente avalia ajudas reduzem o pessimismo e permite um fechamento mais rápido do projecto.
  • O roteamento N28 ordena - Fornece o apoio 28nm para o completo netlist--GDSII ao fluxo, incluindo o apoio para o metade-nó 28nm transparente.
  • Separe o domínio da potência - plantas baixas múltiplas dos Apoios no mesmo domínio da tensão minimizar a congestão e reduzir a necessidade para mudanças da hierarquia.
  • Automatização hierárquica da baixa potência de UPF - Fornece o apoio invertido e de baixo para cima para UPF-baseado, os projectos da baixa potência que dão a desenhistas a maior flexibilidade.

As capacidades da Projecto-para-Fabricação dentro das plataformas do Olympus-SoC e do Calibre foram expandidas e integradas mais firmemente para endereçar edições da variabilidade da fabricação em 28nm e além:

  • Fixação do ponto quente de Litho - Melhora o rendimento permitindo a ferramenta da lugar-e-rota Olympus-SoC fixar automaticamente os pontos quentes do litho detectados pela ferramenta do Calibre LFD™.
  • Convergência Rápida da suficiência de DMx para cronometrar e ECOs - O sistema Olympus-SoC invoca a ferramenta de CMPAnalyzer do Calibre (que funciona com o simulador do VCMP do TSMC) para analisar a variação da espessura para seu impacto no sincronismo. A ferramenta Olympus-SoC igualmente apoia os fluxos hierárquicos, incrementais e sincronismo-conduzidos da suficiência do metal, melhorando significativamente o rendimento e reduzindo o pessimismo.
  • colocação Pilha-deslocamento-Ciente - Reduz a congestão e as velocidades que distribuem distribuindo mais sala para pilhas com acesso difícil do pino.
  • DFM Elétricos - O xRC™ do Calibre e os produtos de CMPAnalyzer do Calibre são integrados para permitir que a informação simulada da espessura seja incorporada em resultados parasíticos da extracção para conduzir a simulação de circuito exacta. Isto igualmente fornece uma solução para uma simulação de canto mais eficiente e a análise estatística fornecendo a informação parasítica estatística ao simulador do circuito de Eldo® do Mentor.

Além, verificação física de término do apoio de produtos o nmDRC do Calibre e do nmLVS do Calibre do 2D e do sistema 3D em projectos (SIP) de pacote no Fluxo 10,0 da Referência.

O Fluxo 10,0 da Referência inclui características novas nos produtos de TestKompress® e de YieldAssist™ para a melhor detecção de falha, o teste potência-ciente e o diagnóstico da falha:

  • O múltiplo Encaixado detecta ATPG - detecção de falha da ponte dos Aumentos sem nenhum aumento no tamanho do teste padrão ou no tempo do teste.
  • Diagnóstico ciente da Disposição - Elimina a ponte falsa/suspeitos abertos, aumenta a definição do diagnóstico, e constrói uma fundação para a análise eficaz do rendimento.
  • Baixa potência ATPG - Reduz a potência durante todas as fases de teste da varredura que utilizam um descompressor da constante-suficiência e um controle potência-ciente de portas de pulso de disparo existentes.

O Fluxo 10,0 da Referência igualmente inclui características funcionais avançadas da verificação do Questa® e as plataformas 0-In® para a validação melhorada do IC complexo projectam.

  • solução Padrão-Baseada que caracteriza o apoio para o Padrão 1801-2009™ UPF de IEEE e o Padrão 1800-2005™ SystemVerilog de IEEE.
  • Simulação Integrada da baixa potência e capacidades formais que verificam circuitos avançados da gestão da potência cedo no fluxo do projecto.
  • A verificação Estática e dinâmica do cruzamento complexo do domínio do pulso de disparo circuita para assegurar a operação apropriada em modos do padrão e da baixa potência.

“A trilha completa do projecto-à-silicone do Mentor no Fluxo 10,0 da Referência do TSMC permite que nós enderecem nossos clientes mútuos' os desafios os mais grandes para 28nm, incluindo o projecto da baixa potência e verificação, variabilidade em grande escala da aplicação do SoC, da fabricação, e teste eficaz na redução de custos e análise do rendimento,” disse Walden C. Reno, presidente e CEO, Gráficos do Mentor. “A transição da indústria a 28nm processa igualmente apresenta os desafios técnicos novos, que o Mentor é em uma posição original a resolver. Nossa colaboração próxima com TSMC permite que nós fechem o laço entre desenhistas e fundições com ferramentas que ajudam nossos clientes a conseguir seus produtos introduzir no mercado mais rapidamente com desempenho mais alto e maior confiança.”

Last Update: 13. January 2012 21:08

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit