Site Sponsors
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
Save 20% On a Jenway 7315 Spectrophotometer from Bibby Scientific

There is 1 related live offer.

20% Off Jenway Spectrophotometer

Lithography för Ships LithoPack300 för SUSS MicroTec Samla i en klunga till Japan

Published on August 25, 2009 at 9:09 AM

SUSS MicroTec (FWB: SMH) (GER: SMH), en leverantör av innovativt bearbetar och testar lösningar för halvledarebranschen, och släkt marknadsför, har sänt en lithography LithoPack300 samla i en klunga till Japan. Systemet har lyckat installerats på kundplatsen var det ska används för teknologiutveckling för integration 3D. Samla i en klungalösningen med täcker, bakar, blottan och framkallar enheter för rån 300mm utgör upp till etteffektivt att närma sig för utmana Till och med-Silikon-Via (TSV) det fabriks- och bakredistributionlagrar (RDL) i produktion för integration 3D. Med dessa inbyggda mer ytterligare lösningar för lithography lösning och för den permanent och tillfälliga rånbindningen SUSS erbjuder MicroTec ett färdigt bearbetar och teknologiportföljen för integration 3D. SUSS MicroTec har för en tid sedan meddelat att dess deltagande i en spänna av forskning projekterar på integrationsprocesser som 3D kör teknologiframflyttningar från utrustningleverantörsidan.

LithoPack 300 (Foto för SUSS MicroTecs: Affären Binder),

Sammanslutningarna LithoPack300 två 300mm photolithographyenheter i ett system och föreställer den kosta-effektivaste inbyggda lithographylösningen i marknadsföra. Enheten för MA300 Gen2, en 300mm nästa generation maskerar tillrättarplattformen, ger den utmärkta baken som bearbetar kapaciteter som möjliggör högt exakt photolithography bearbetar för det fabriks- av bakredistributionlagrar, eller TSV etsar maskerar. De stängda erbjudandena för enheten ACS300 täcker att täcka teknologi och bäst-i-klassificerar kantar pryder med pärlor borttagningsprecision och möjliggör därför optimal motstår tjockt att bearbeta för integrationsprocesser 3D.

”Under senare år har lithographysystem för SUSS MicroTec framkallat in i en möjliggöra plattform för Integrationsteknologier för nästa generation 3D”, sade den Rolf Wolfen, allmän chef av lithographyuppdelning för SUSS MicroTecs. ”I Dag Maskerar SUSS Tillrättare kan förhöjas med att bearbeta för submicronjusteringen, rån kantar bruk eller UV-bindningen för rån till rånet som staplar, alla särdrag som har blivit kritiskt viktiga för applikationer 3D.

”Med medverkan av SUSS MicroTec i landskampforskningsamarbeten är vi stolt att bli vidare involverade i utveckling för integrationsprocess 3D.”, said Raymond Lau, AffärsChef för SUSS MicroTec i Japan. ”Gynnar Våra Japanska kunder som direkt ska, från dessa tekniska framflyttningar. Vi tycker om att vara kompetent att erbjuda eniscensatt lösningsportfölj för integration 3D som möter egentligen deras specifika behov.”,

Last Update: 25. January 2012 04:12

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit