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협력은 CNSE의 올바니 NanoTech에서 새로운 EUV 물자를에 저항합니다 물자와 개발 센터를 설명할 것입니다

Published on August 31, 2009 at 8:13 AM

Shin Etsu가 결합했다 칩메이커의 SEMATECH, 글로벌 협회, 및 Shin Etsu 화학제품 Co., 주식 회사, 세계에서 반도체 물자의 가장 큰 공급자의 한은 Nanoscale 과학과 기술설계 (CNSE)의 올바니 NanoTech 복합물의 대학에, 오늘 알려진 SEMATECH 물자와 개발 센터 (RMDC)를 저항합니다.

에 저쪽에 사용 22 nm 마디를 위한 향상된 EUV 감광저항을 개발하고 설명해 SEMATECH의 석판인쇄술 프로그램의 저항 일원, Shin Etsu가 SEMATECH에 연구원과 팀을 만들 때문에.

"로 파트너가 되어서 - 향상된 화상 진찰의 중요한 지역에서 - Shin Etsu와 같은 공급자를 가속할 것입니다 중요한 도전을 - 해결책 선폭 소밀 및 패턴 붕괴와 같은 다루기에 있는 우리의 진도를 저항하십시오," Bryan 밥, SEMATECH에 석판인쇄술의 디렉터를 말했습니다. "우리는 진행에서 결합된 회사가 공정개발을." 저항하는지지와 세계적으로 대학을 나타내 다스 연구원과 파트너가 될 SEMATECH의 RMDC에 Shin Etsu를 환영하는 만족됩니다,

"EUVL 기술의 상품화에 필요한 최첨단 연구와 개발 Shin Etsu의 추가에 의해 더 강화될 것입니다,"는 리처드 Brilla를, 전략, 연립 및 협회를 위한 CNSE 말했습니다 부사장. "이 새로운 공동체정신 우리의 글로벌 법인 파트너 및 nanoelectronics 산업의 선진 기술 필요의 원조로 UAlbany NanoCollege에 세계적인 기능에 건축할 것입니다."는

협력은 SEMATECH의 입증된 기계설비 및 연구 전문 기술, 반도체 경험 및 매우 훌륭한 시장 지도력과 Shin Etsu's에, 산업 주요한 반도체 특기 물자의 광대한 통신망 근거를 둘 것입니다. SEMATECH의 RMDC는 올바니의 Nanoscale 과학과 기술설계의 (METs) 대학과 버클리에 가주 대학에 대학에 있는 2개의 마이크로 노출 공구에 접근, 뿐 아니라 몇몇 도량형학 공구를 제공할 것입니다.

수년을 위해 SEMATECH는 물자 발달을 위한 세계적인 노출 기능을 유지했습니다. RMDC는 지도를 저항합니다 소집하고 물자 공급자 그리고 큰 포트홀리로는의 학자와 기업 연구원을 세계적으로 고용하는 연구 계획을 저항합니다. 함께, RMDC는 기계설비를 제공하고 EUV를 개발하는 연구 전문 기술은 제조에 있는 부응하는 프로세스를 필요로 한 계속 진도를 위한 엄격한 해결책, 선폭 소밀 및 감도 논고에 저항합니다.

Last Update: 13. January 2012 23:07

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