协作将展示新的 EUV 材料在 CNSE 的阿尔巴尼 NanoTech 抵抗材料和开发中心

Published on August 31, 2009 at 8:13 AM

SEMATECH、芯片制造商全球财团和申英澈Etsu 化学制品 Co.,有限公司,其中一个半导体材料的世界的最大的供应商,今天宣布的申英澈Etsu 连接了 SEMATECH 在 Nanoscale 科学和工程的 (CNSE) 阿尔巴尼 NanoTech 复杂学院抵抗材料和开发中心 (RMDC)。

因为 SEMATECH 的石版印刷程序的抵抗成员,申英澈Etsu 将合作与研究员在 SEMATECH 开发和展示先进的 EUV 光致抗蚀剂为在 22 毫微米节点的以远使用和。

“成为伙伴与请抵抗供应商例如申英澈Etsu 将加速我们的在应付关键挑战的进展 - 例如解决方法、行宽坎坷和模式折叠 - 在先进的想象临界面积”,米,石版印刷的主任说布赖恩在 SEMATECH 的。 “我们高兴地欢迎申英澈Etsu 到 SEMATECH 的 RMDC,它与表示大学的数十位研究员将成为伙伴,并且在提前世界各地团结的公司抵抗工艺过程开发”。

“为 EUVL 技术的商品化是必要的最尖端的研究与开发将由申英澈的添加 Etsu 进一步提高”, CNSE 说理查 Brilla,方法、联盟和财团副总裁。 “此新的合伙企业在国际水平的功能将编译在 UAlbany NanoCollege 支持我们的全球总公司合作伙伴和 nanoelectronics 行业的先进技术需要”。

协作和在申英澈Etsu's 基础上证明的硬件和研究专门技术、半导体经验和非常受尊敬的市场领导,领先业界的半导体专业材料 SEMATECH 的广泛的网络。 SEMATECH 的 RMDC 将提供对二个微型风险工具的存取 (METs)位于大学 Nanoscale 科学和工程阿尔巴尼的学院和加州大学伯克利分校,以及几个计量学工具。

几年 SEMATECH 维护了材料发展的一个国际水平的风险功能。 RMDC 带来导致抵抗,并且材料供应商和一个大投资组合抵抗世界各地雇用院和行业研究员的研究计划。 同时, RMDC 提供硬件,并且开发 EUV 的研究专门技术抵抗符合严密解决方法、行宽坎坷和区分说明需要的持续的进展的进程在制造中。

Last Update: 13. January 2012 13:54

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