協作將展示新的 EUV 材料在 CNSE 的阿爾巴尼 NanoTech 抵抗材料和開發中心

Published on August 31, 2009 at 8:13 AM

SEMATECH、芯片製造商全球財團和申英澈Etsu 化學製品 Co.,有限公司,其中一個半導體材料的世界的最大的供應商,今天宣佈的申英澈Etsu 連接了 SEMATECH 在 Nanoscale 科學和工程的 (CNSE) 阿爾巴尼 NanoTech 複雜學院抵抗材料和開發中心 (RMDC)。

因為 SEMATECH 的石版印刷程序的抵抗成員,申英澈Etsu 將合作與研究員在 SEMATECH 開發和展示先進的 EUV 光致抗蝕劑為在 22 毫微米節點的以遠使用和。

「成為夥伴與请抵抗供應商例如申英澈Etsu 將加速我們的在應付關鍵挑戰的進展 - 例如解決方法、行寬坎坷和模式摺疊 - 在先進的想像臨界面積」,米,石版印刷的主任說布賴恩在 SEMATECH 的。 「我們高興地歡迎申英澈Etsu 到 SEMATECH 的 RMDC,它與表示大學的數十位研究員將成為夥伴,并且在提前世界各地團結的公司抵抗工藝過程開發」。

「為 EUVL 技術的商品化是必要的最尖端的研究與開發將由申英澈的添加 Etsu 進一步提高」, CNSE 說理查 Brilla,方法、聯盟和財團副總裁。 「此新的合夥企業在國際水平的功能將編譯在 UAlbany NanoCollege 支持我們的全球總公司合作夥伴和 nanoelectronics 行業的先進技術需要」。

協作和在申英澈Etsu's 基礎上證明的硬件和研究專門技術、半導體經驗和非常受尊敬的市場領導,領先業界的半導體專業材料 SEMATECH 的廣泛的網絡。 SEMATECH 的 RMDC 將提供對二個微型風險工具的存取 (METs)位於大學 Nanoscale 科學和工程阿爾巴尼的學院和加州大學伯克利分校,以及幾個計量學工具。

幾年 SEMATECH 維護了材料發展的一個國際水平的風險功能。 RMDC 帶來導致抵抗,并且材料供應商和一個大投資組合抵抗世界各地雇用院和行業研究員的研究計劃。 同時, RMDC 提供硬件,并且開發 EUV 的研究專門技術抵抗符合嚴密解決方法、行寬坎坷和區分說明需要的持續的進展的進程在製造中。

Last Update: 25. January 2012 01:23

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