Beneq Fortalece la Posición en Mercado Atómico Aumentado Plasma del Equipo de la Deposición de la Capa

Published on September 2, 2009 at 9:35 AM

Beneq, el prever de la compañía industrial y equipo y tecnología de R+D capas funcionales, ha fortalecido más lejos su posición en el mercado Atómico aumentado plasma del equipo (PEALD) de la Deposición de la Capa, estableciendo un acuerdo de la colaboración con el Dr. Arturo Sherman, el pionero e inventor del clave de la tecnología de PEALD.

El Dr. Sherman observó que la “tecnología de PEALD proporciona a capacidades adicionales importantes en desplegar opciones del proceso y de la química de ALD, e.g para temperaturas de proceso más inferiores y para los nuevos materiales de revestimiento, no actualmente disponible con la termal tradicional ALD.”

El Dr. Tommi Vainio, CTO de Beneq, agregó que “Este acuerdo de la colaboración con el Dr. Sherman más futuro acelera la extensión de Beneq en las aplicaciones de PEALD, incluyendo no sólo nuestros sistemas del R&D ALD, TFS 200 y TFS populares actuales 500, pero también los sistemas futuros de la producción industrial ALD que utilizaban capacidades de PEALD. Los clientes de Beneq ahora tienen acceso al soporte fuerte del proceso de PEALD, además de los sistemas avanzados y probados de ALD de Beneq.”

Relacionado con esta colaboración, el Dr. Sherman proporcionó a la presentación principal durante el cliente del ALD de Beneq que se encontraba el 2 de septiembre de 2009.

Para la información adicional haga contacto con por favor:
Sr. Sampo Ahonen, CEO, Beneq Oy
M: + 358 40 520 1090, sampo.ahonen@beneq.com, www.beneq.com

Beneq Oy, Vantaa, Finlandia, es un surtidor del equipo industrial y de la tecnología para los mercados globales. Beneq está girando innovaciones en éxito proporcionando a las aplicaciones funcionales activadas nanotecnología de la capa para las áreas del cleantech y de la energía renovable especialmente en cristal, a photovoltaics y a mercados emergentes de las películas finas. Las soluciones de Beneq se basan en la Deposición Atómica de la Capa (ALD) y tecnologías atmosféricas propietarias de la capa del aerosol del nHALO® y del nAEROTM.

Last Update: 13. January 2012 17:45

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