Beneq Renforce la Position sur le Marché Atomique Amélioré de Matériel de Dépôt de Couche de Plasma

Published on September 2, 2009 at 9:35 AM

Beneq, une compagnie fournissant l'industriel et le matériel de R+D et la technologie pour les couches fonctionnelles, a davantage renforcé sa position sur le marché Atomique amélioré de matériel de Dépôt (PEALD) de Couche de plasma, en déterminant une convention de collaboration avec M. Arthur Sherman, le pionnier et inventeur de clé de technologie de PEALD.

M. Sherman a noté que la « technologie de PEALD fournit des capacités supplémentaires importantes en augmentant des options de procédé et de chimie d'ALD, par exemple pour les plus basses températures de processus et pour les matériaux de couche neufs, non actuellement disponible en utilisant la thermique traditionnelle ALD. »

M. Tommi Vainio, CTO de Beneq, a ajouté que « Cette convention de collaboration avec M. Sherman autre accélère l'extension de Beneq dans les applications de PEALD, comprenant non seulement nos systèmes de R&D ALD, TFS 200 et TFS 500 populaires actuels, mais également de futurs systèmes de la production industrielle ALD employant des capacités de PEALD. Les abonnées de Beneq ont maintenant accès au support intense de procédé de PEALD, en plus des systèmes avancés et prouvés d'ALD de Beneq. »

Associé à cette collaboration, M. Sherman a fourni la présentation keynote pendant l'abonnée de l'ALD de Beneq se réunissant le 2 septembre 2009.

Pour Information les informations complémentaires entrez en contact s'il vous plaît :
M. Sampo Ahonen, PRÉSIDENT, Beneq Oy
M : + 358 40 520 1090, sampo.ahonen@beneq.com, www.beneq.com

Beneq Oy, Vantaa, Finlande, est un fournisseur d'équipement industriel et de technologie pour les marchés globaux. Beneq transforme des innovations en réussite en fournissant des applications fonctionnelles de couche activées par nanotechnologie pour des zones de cleantech et d'énergie renouvelable particulièrement sur la glace, le photovoltaics et les marchés apparaissants de films minces. Les solutions de Beneq sont basées sur le Dépôt Atomique de Couche (ALD) et les technologies atmosphériques de propriété industrielle de couche d'aérosol de nHALO® et de nAEROTM.

Last Update: 13. January 2012 18:47

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit