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Beneq rafforza la sua posizione nel plasma avanzata Atomic Layer Deposition Mercato Attrezzature

Published on September 2, 2009 at 9:35 AM

Beneq , una società di industriali e di apparecchiature R + S e la tecnologia per i rivestimenti funzionali, ha ulteriormente rafforzato la sua posizione rafforzata di plasma atomica mercato Deposizione attrezzature Layer (PEALD), stabilendo un accordo di collaborazione con il Dr. Arthur Sherman, il pioniere e il tasto inventore della tecnologia PEALD.

Il dottor Sherman ha osservato che "la tecnologia PEALD offre importanti funzionalità aggiuntive per l'espansione processo ALD chimica e opzioni, ad esempio per temperature di processo più basse e per i nuovi materiali di rivestimento, non è attualmente disponibile con i tradizionali ALD termica."

Dr. Tommi Vainio, CTO di Beneq, ha aggiunto che "Questo accordo di collaborazione con il Dr. Sherman accelera ulteriormente l'espansione Beneq nel PEALD applicazioni, tra cui non solo corrente popolare la nostra R & S dei sistemi ALD, TFS TFS 200 e 500, ma anche il futuro industriale Sistemi di produzione che utilizzano le capacità ALD PEALD. Beneq i clienti hanno ora accesso a un forte sostegno PEALD processo, oltre ai sistemi avanzati e comprovata da ALD Beneq ".

Relativi a questa collaborazione, il Dr. Sherman fornito la presentazione keynote durante la riunione del cliente ALD Beneq è il 2 settembre 2009.

Per ulteriori informazioni contattare:
Sig. Sampo Ahonen, CEO di Beneq Oy
M: + 358 40 520 1090, sampo.ahonen @ beneq.com, www.beneq.com

Beneq Oy, Vantaa, in Finlandia, è un fornitore di attrezzature industriali e tecnologia per i mercati globali. Beneq innovazioni si sta trasformando in un successo fornendo le nanotecnologie applicazioni abilitate coating funzionali per le aree energie rinnovabili soprattutto tecnologie pulite e in vetro, il fotovoltaico e mercati emergenti sottili pellicole. Le soluzioni sono basate su Beneq Atomic Layer Deposition (ALD) e di proprietà atmosferiche nHALO ® & nAEROTM tecnologie di rivestimento aerosol.

Last Update: 27. October 2011 13:41

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