Beneq 在等离子改进的基本层证言设备市场上巩固地位

Published on September 2, 2009 at 9:35 AM

Beneq,公司提供行业和 R+D 设备和技术功能涂层,通过设立协作协议在等离子改进的基本层 (PEALD)证言设备市场上进一步巩固其地位,以亚瑟谢尔曼、这个先驱和 PEALD 技术关键字发明者博士。

谢尔曼博士注意到, “PEALD 技术提供在扩展 ALD 进程和化学选项的重要另外的功能,即为更低的处理温度和为新的盖层,不现在可以得到使用传统上升暖流 ALD”。

Tommi Vainio, Beneq CTO 博士,补充说, “此协作协议以的谢尔曼博士更加进一步加速在 PEALD 应用的 Beneq 的扩展,包括不仅我们的当前普遍的 R&D ALD 系统、 TFS 200 和 TFS 500,而且使用 PEALD 功能的将来的工业生产 ALD 系统。 Beneq 的客户现在得以进入对严格的 PEALD 进程技术支持的,除从 Beneq 的先进和证明的 ALD 系统之外”。

与此协作相关,谢尔曼博士提供这个主题介绍在 Beneq 的 ALD 客户会议期间在 2009年 9月 2日。

对于附加信息 请与联系:
Sampo Ahonen, CEO, Beneq Oy 先生
M : + 358 40 520 1090, sampo.ahonen@beneq.com, www.beneq.com

Beneq Oy,万塔,芬兰,是工业设备和技术的供应商世界市场的。 Beneq 把创新变成成功通过提供纳米技术被启用的功能涂层应用为 cleantech 和可再造能源区特别是在玻璃, photovoltaics 和涌现的薄膜市场。 Beneq 解决方法在基本层证言和 (ALD)所有权大气 nHALO® & nAEROTM 湿剂涂层技术基础上。

Last Update: 13. January 2012 13:54

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