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Beneq 在等離子改進的基本層證言設備市場上鞏固地位

Published on September 2, 2009 at 9:35 AM

Beneq,公司提供行業和 R+D 設備和技術功能塗層,通過設立協作協議在等離子改進的基本層 (PEALD)證言設備市場上進一步鞏固其地位,以亞瑟謝爾曼、這個先驅和 PEALD 技術關鍵字發明者博士。

謝爾曼博士注意到, 「PEALD 技術提供在擴展 ALD 進程和化學選項的重要另外的功能,即為更低的處理溫度和為新的蓋層,不現在可以得到使用傳統上升暖流 ALD」。

Tommi Vainio, Beneq CTO 博士,補充說, 「此協作協議以的謝爾曼博士更加進一步加速在 PEALD 應用的 Beneq 的擴展,包括不僅我們的當前普遍的 R&D ALD 系統、 TFS 200 和 TFS 500,而且使用 PEALD 功能的將來的工業生產 ALD 系統。 Beneq 的客戶現在得以進入對嚴格的 PEALD 進程技術支持的,除從 Beneq 的先進和證明的 ALD 系統之外」。

與此協作相關,謝爾曼博士提供這個主題介紹在 Beneq 的 ALD 客戶會議期間在 2009年 9月 2日。

對於附加信息请請請與聯繫:
Sampo Ahonen, CEO, Beneq Oy 先生
M : + 358 40 520 1090, sampo.ahonen@beneq.com, www.beneq.com

Beneq Oy,萬塔,芬蘭,是工業設備和技術的供應商世界市場的。 Beneq 把創新變成成功通過提供納米技術被啟用的功能塗層應用為 cleantech 和可再造能源區特別是在玻璃, photovoltaics 和湧現的薄膜市場。 Beneq 解決方法在基本層證言和 (ALD)所有權大氣 nHALO® & nAEROTM 濕劑塗層技術基礎上。

Last Update: 25. January 2012 02:03

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