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Carl Zeiss Introduce el Sistema de la Aptitud de la Máscara de los OBJETIVOS de la Generación Siguiente

Published on September 14, 2009 at 3:33 AM

En la Conferencia 2009 de la Tecnología del Photomask en Monterey/CA Carl Zeiss introduce la generación siguiente de su sistema actínico de la aptitud de la máscara de AIMS™. AIMS™ 32-193i emula a la proyección de imagen de photomasks con los analizadores marginales de la inmersión 193nm para el nodo 32nm y más allá. La primera salida a un cliente delantero del borde se programa para Septiembre de 2009.

El Sistema Actínico de la Aptitud de la Máscara APUNTA 32-193i.

La Tecnología Antena de la Medición de la Imagen de Carl Zeiss ha avance importante para activar la emulación exacta de las técnicas de la litografía 32nm tales como Tecnología Que Modelaba Doble, Optimización de la Máscara de la Fuente y Litografía De Cómputo.

La máscara Compleja diseña así como pliegos de condiciones más apretados del CD da lugar a los nuevos retos para la aptitud del photomask en cuanto a calidad de la repetibilidad y de la imagen. El AIMS™ 32-193i se ha diseñado específicamente para un pliego de condiciones de la repetibilidad del CD debajo de 0.25nm en el nivel del fulminante equivalente a 1.00nm en el nivel de la máscara. “Basado en la experiencia amplia de Carl Zeiss con tecnologías del lente del analizador introdujimos una nueva óptica del grado de LITO™ en AIMS™ 32-193i asegurándose que el analizador como funcionamiento de la proyección de imagen” dijo al Dr. Oliverio Kienzle, Director de Gerente de la división de Sistemas de la Metrología del Semiconductor de Carl Zeiss. “El sistema ahora incluye la tecnología interferométrica del escenario para la exactitud adicional en la colocación de la máscara.”

Un sistema de iluminación avanzado permite la emulación de toda clase de configuraciones de la iluminación 193nm. Por primera vez en la transmisión variable de la historia de AIMS™ en el alumno de la iluminación está disponible ahora con AIMS™ 32-193i. Mientras Que las generaciones anteriores de AIMS™ fueron limitadas a una distribución binaria de la intensidad por la descripción geométrica de la apertura de la sigma el esquema de la iluminación se puede ahora definir con una intensidad diversa de la gris-escala como en los analizadores más avanzados. Tales esquemas de la iluminación se pueden ajustar fexiblemente a diversas distribuciones de la intensidad dentro del alumno.

Así, el AIMS™ 32-193i activa la disposición del defecto de la máscara y la aptitud exactas de la reparación para las máscaras 32nm y asegura la introducción de tecnologías próximas de la litografía tales como Modelar Doble, Litografía De Cómputo (Tecnología Inversa de Litho) y Optimización de la Máscara de la Fuente (SMO).

Last Update: 13. January 2012 17:03

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