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Carl Zeiss Introduit le Système de Qualification de Masque d'OBJECTIFS de Prochain Rétablissement

Published on September 14, 2009 at 3:33 AM

À la Conférence 2009 de Technologie de Photomask dans Monterey/CA Carl Zeiss introduit le prochain rétablissement de leur système actinique de qualification de masque d'AIMS™. AIMS™ 32-193i émule la représentation des photomasks avec les balayeurs de pointe de la submersion 193nm pour le noeud 32nm et au-delà. Le premier accouchement à une abonnée de bord d'attaque est programmé pour Septembre 2009.

Le Système Actinique de Qualification de Masque ORIENTE 32-193i.

La Technologie Aérienne de Mesure d'Image de Carl Zeiss a été sensiblement avancée pour activer l'émulation précise des techniques de la lithographie 32nm telles que la Double Technologie de Structuration, l'Optimisation de Masque de Source et la Lithographie De Calcul.

Le masque Complexe conçoit avec des caractéristiques CD plus serrées ont comme conséquence des défis neufs pour la qualification de photomask en ce qui concerne la répétabilité et la qualité des images. L'AIMS™ 32-193i a été particulièrement conçu avec un cahier des charges CD de répétabilité ci-dessous 0.25nm au niveau de disque équivalent à 1.00nm au niveau de masque. « Basé sur les compétences grandes de Carl Zeiss avec des technologies de lentille de balayeur nous avons introduit un bloc optique neuf de qualité de LITO™ à AIMS™ 32-193i s'assurant que le balayeur comme la performance de représentation » a indiqué M. Oliver Kienzle, Directeur Général de division de Systèmes de Métrologie de Semi-conducteur de Carl Zeiss. « Le système comprend maintenant la technologie interférométrique de stade pour davantage d'exactitude dans positionner de masque. »

Un système de flash avancé permet l'émulation de toutes sortes de configurations de l'illumination 193nm. Pour la première fois dans la boîte de vitesses variable d'histoire d'AIMS™ dans le pupille d'illumination est maintenant disponible avec AIMS™ 32-193i. Tandis Que des rétablissements précédents d'AIMS™ étaient limités à une distribution binaire d'intensité par description géométrique d'ouverture de sigma le plan d'illumination peut maintenant être défini avec une intensité à fond gris variable comme dans les balayeurs les plus avancés. De Tels plans d'illumination peuvent être flexible réglés sur différentes distributions d'intensité dans le pupille.

Ainsi, l'AIMS™ 32-193i active la destination précise de défaut de masque et la qualification de réglage pour les masques 32nm et assure l'introduction des technologies prochaines de lithographie telles que la Double Structuration, la Lithographie De Calcul (Technologie Inverse de Litho) et l'Optimisation de Masque de Source (SMO).

Last Update: 13. January 2012 18:06

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