Carl Zeiss Introduce il Sistema di Qualificazione della Maschera di OBIETTIVI di Next Generation

Published on September 14, 2009 at 3:33 AM

Alla Conferenza 2009 della Tecnologia del Photomask in Monterey/CA Carl Zeiss introduce la generazione seguente di loro sistema attinico di qualificazione della maschera di AIMS™. AIMS™ 32-193i emula la rappresentazione dei photomasks con gli scanner avanzati di immersione 193nm per il vertice 32nm e di là. La prima consegna ad un cliente del bordo di attacco è preveduta per Il settembre 2009.

Il Sistema Attinico di Qualificazione della Maschera TENDE 32-193i.

La Tecnologia Aerea di Misura di Immagine da Carl Zeiss è stata avanzata significativamente per permettere all'emulazione accurata delle tecniche della litografia 32nm quali la Doppia Tecnologia di Modello, l'Ottimizzazione della Maschera di Sorgente e la Litografia Di Calcolo.

La maschera Complessa progetta insieme alle specifiche più strette del CD provoca le nuove sfide per la qualificazione del photomask riguardo a qualità di immagine e di ripetibilità. Il AIMS™ 32-193i specificamente è stato progettato per una specifica di ripetibilità del CD sotto 0.25nm al livello del wafer equivalente a 1.00nm al livello della maschera. “Basato sulla vasta competenza di Carl Zeiss con le tecnologie della lente dello scanner abbiamo introdotto una nuova ottica del grado di LITO™ a AIMS™ 32-193i assicurandoci che lo scanner come la prestazione della rappresentazione„ dicesse il Dott. Oliver Kienzle, Amministratore Delegato di divisione di Sistemi della Metrologia A Semiconduttore di Carl Zeiss. “Il sistema ora comprende la tecnologia interferometric della fase per ulteriore accuratezza nel posizionamento della maschera.„

Un sistema di illuminazione avanzato permette l'emulazione di tutti i tipi di impostazioni dell'illuminazione 193nm. Per la prima volta nella trasmissione variabile di cronologia di AIMS™ nell'allievo dell'illuminazione ora è disponibile con AIMS™ 32-193i. Mentre le generazioni precedenti di AIMS™ sono state limitate ad una distribuzione binaria dell'intensità dalla descrizione geometrica dell'apertura diaframma di sigma lo schema dell'illuminazione può ora essere definito con un'intensità a fondo grigio variante come negli scanner più avanzati. Tali schemi dell'illuminazione possono essere flessibilmente regolato alle distribuzioni differenti dell'intensità all'interno dell'allievo.

Quindi, il AIMS™ 32-193i permette alla cessione di difetto della maschera ed alla qualificazione accurate della riparazione per le maschere 32nm ed assicura l'introduzione delle tecnologie imminenti della litografia quali il Doppio Modello, la Litografia Di Calcolo (Tecnologia Inversa di Litho) e l'Ottimizzazione della Maschera di Sorgente (SMO).

Last Update: 13. January 2012 18:11

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