Карл Zeiss Вводит Систему Квалификации Маски ЦЕЛЕЙ Следующего Поколени

Published on September 14, 2009 at 3:33 AM

На Конференции 2009 Технологии Photomask в Monterey/CA Карл Zeiss вводит следующее поколени их актиничной системы квалификации маски AIMS™. AIMS™ 32-193i подражает воображению photomasks с блоками развертки погружения ведущей кромки 193nm для узла 32nm и за пределами. Первая поставка к клиенту ведущей кромки запланирована на Сентябрь 2009.

Актиничная Система Квалификации Маски НАПРАВЛЯЕТ 32-193i.

Воздушная Технология Измерения Изображения от Карл Zeiss значительно была выдвинута для того чтобы включить точное эмулирование методов литографированием 32nm как Двойная Делая По Образцу Технология, Оптимизирование Маски Источника и Вычислительное Литографирование.

Сложная маска конструирует вместе с более плотными спецификациями КОМПАКТНОГО ДИСКА приводит к в новых возможностях для квалификации photomask по отношению к качеству повторимости и изображения. AIMS™ 32-193i специфически было конструировано для спецификации повторимости КОМПАКТНОГО ДИСКА под 0.25nm на уровне вафли соответствующем к 1.00nm на уровне маски. «Основано на обширной экспертизе Карл Zeiss с технологиями объектива блока развертки мы ввели новую оптику ранга LITO™ на AIMS™ 32-193i обеспечивающ что блок развертки как представление воображения» сказало Др. Оливера Kienzle, Управляющий Директор разделения Систем Метрологии Полупроводника Карл Zeiss. «Система теперь включает интерферометрическую технологию этапа для более дальнеишей точности в располагать маски.»

Предварительная система освещения позволяет эмулированию всех видов установок освещения 193nm. Для the first time внутри передачи истории AIMS™ переменной в зрачок освещения теперь доступна с AIMS™ 32-193i. Пока ограничивались предыдущие поколения AIMS™ к бинарному распределению интенсивности геометрическим описанием апертуры сигмы схему освещения можно теперь определить с меняя интенсивностью сер-маштаба как в самых предварительных блоках развертки. Такие схемы освещения можно гибко отрегулировать к различным распределениям интенсивности внутри зрачок.

Таким Образом, AIMS™ 32-193i включает точные решение дефекта маски и квалификацию ремонта для маск 32nm и обеспечивает введение предстоящих технологий литографированием как Двойной Делать По Образцу, Вычислительное Литографирование (Обратная Технология Litho) и Оптимизирование Маски Источника (SMO).

Last Update: 13. January 2012 19:05

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit