Site Sponsors
  • Technical Sales Solutions - 5% off any SEM, TEM, FIB or Dual Beam
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD

Carl Zeiss Introducerar Nästa GenerationSYFTEN Maskerar KvalifikationSystemet

Published on September 14, 2009 at 3:33 AM

På PhotomaskTeknologiKonferensen 2009 i Monterey/CA Carl introducerar Zeiss nästa generation av deras actinic AIMS™ maskerar kvalifikationsystemet. AIMS™ 32-193i tävlar med avbilda av photomasks med immersionbildläsare för framkanten 193nm för knutpunkten 32nm och det okända. Den första leveransen till en framkantkund är planlagd för September 2009.

Actinic Maskera KvalifikationSystemSYFTEN 32-193i.

Antennen Avbildar MätningsTeknologi från Carl som Zeiss har varit markant avancerad att möjliggöra exakt tävlan av tekniker för lithography 32nm liksom Dubblett som Mönstrar Teknologi, Maskerar Källan Optimization och Computational Lithography.

Komplex maskerar designer samman med mer åtsittande CD specifikationer resulterar i nya utmaningar för photomaskkvalifikation med hänsyn till repeatability och avbildar kvalitets-. AIMS™EN 32-193i har specifikt planlagts för en CD repeatabilityspecifikation nedanför 0.25nm på rånet som den jämna motsvarigheten till 1.00nm på maskerar jämnt. ”Baserat på den breda sakkunskapen av Carl Zeiss med bildläsarlinsteknologier vi introducerade en ny LITO™, gradera optik på AIMS™ 32-193i se till att den lika bildläsaren avbilda kapacitet” sade Dr. Oliver Kienzle, Disponent av uppdelning för System för Carl Zeiss HalvledareMetrology. ”Inkluderar systemet nu interferometric arrangerar teknologi för mer ytterligare exakthet maskerar in positionering.”,

Ett avancerat belysningsystem låter sorterna för tävlan allra av inställningar för belysning 193nm. För den första tiden i överföring för AIMS™-historievariabel i belysningeleven är nu tillgängligt med AIMS™ 32-193i. Begränsades föregående AIMS™ utvecklingar för Stund till en binär styrkefördelning av geometrisk sigmaöppningsbeskrivning som belysningintrigen kan nu definieras med en varierande grå färg-fjäll styrka som i de mest avancerade bildläsarna. Sådan belysningintriger kan böjligt justeras till olika styrkefördelningor inom eleven.

Således möjliggör AIMS™EN 32-193i exakt maskerar hoppar av disposition och reparerar kvalifikationen för 32nm maskerar och ser till inledningen av kommande lithographyteknologier liksom Dubbel Mönstra Computational Lithography (OmvändningLitho Teknologi), och Källan Maskerar Optimization (SMO).

Last Update: 25. January 2012 06:18

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit