Site Sponsors
  • Technical Sales Solutions - 5% off any SEM, TEM, FIB or Dual Beam
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD

卡尔蔡司引入下一代目标屏蔽鉴定系统

Published on September 14, 2009 at 3:33 AM

在 Monterey/CA 卡尔的光掩膜技术会议 2009年蔡司引入他们的光化 AIMS™屏蔽鉴定系统的下一代。 AIMS™ 32-193i 模拟光掩膜想象与以远前进 193nm 浸没扫描程序的这个 32nm 节点的和。 对一个前沿客户的第一发运预定 2009年 9月。

光化屏蔽鉴定系统争取 32-193i。

显著提前从卡尔蔡司的空中图象评定技术启用 32nm 石版印刷技术的准确仿效例如双仿造的技术、来源屏蔽优化和计算石版印刷。

复杂屏蔽与更加严密的 CD 的说明一起设计导致光掩膜鉴定的新的挑战关于反复性和图象质量。 AIMS™ 32-193i 为在 0.25nm 下的一个 CD 的反复性说明特别地设计在薄酥饼级别等同与在屏蔽级别的 1.00nm。 “基于卡尔蔡司清楚的专门技术有扫描程序透镜技术的我们引入新的 LITO™等级光学在 AIMS™ 32-193i 保证象想象性能的扫描程序”说奥利佛史东 Kienzle,卡尔蔡司半导体计量学系统部的总经理博士。 “这个系统在屏蔽确定现在包括进一步准确性的干涉测量的阶段技术”。

先进的照明系统允许各种各样的 193nm 照明设置的仿效。 第一次在照明学生的 AIMS™历史记录可变的传输对 AIMS™ 32-193i 现在是可用的。 早先 AIMS™生成被限制了到一个二进制强度配电器由几何斯格码开口说明照明模式可能现在定义与一种变化的灰度的强度在最先进的扫描程序。 这样照明模式可以对在这个学生内的不同的强度配电器灵活地被调整。

因此, AIMS™ 32-193i 启用准确屏蔽缺陷试样结果和维修服务鉴定的 32nm 屏蔽并且保证即将发布的石版印刷技术的简介例如双仿造,计算石版印刷 (倒数 Litho 技术) 和来源屏蔽优化 (SMO)。

Last Update: 13. January 2012 13:14

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit