Mentor Graphics y Applied Materials anuncia un hito importante

Published on September 14, 2009 at 9:28 AM

Mentor Graphics Corporation (Nasdaq: MENT) y Applied Materials Inc., (NASDAQ: AMAT) ha anunciado hoy un importante hito en la adopción de formatos de datos abiertos para la fabricación de la máscara. El despliegue de volumen de producción de la primera OASIS.MASK nuevo (SEMI estándar P44) se realizó en formato Aera2 ™ avanzada aplicada en los sistemas de inspección del uso de la máscara de la máscara de Mentor Graphics, la preparación de datos de tecnología de software. El nuevo formato simplifica enormemente la tarea de crear el complejo de máscaras, de alta fidelidad que son vitales para la fabricación de dispositivos semiconductores en los nodos de la tecnología de 32 nm y por debajo.

OASIS.MASK (Sistema Abierto de ilustraciones de Intercambio Estándar para Capitulo) es un formato abierto de intercambio estándar utilizado para representar y expresar el nivel de chip de diseño de datos físicos y la máscara. El formato OASIS.MASK reduce el tamaño de los datos de la máscara de archivos de aproximadamente la mitad, eliminando el cuello de botella de transferencia de archivos entre las herramientas de software y equipos de fabricación de la máscara - un beneficio clave con tamaños de archivo de hoy cerca de un terabyte. Como una interfaz abierta, que permite al mismo archivo de datos que se utilizará para la generación de patrones, Metrología e Inspección, la simplificación de la máscara de los flujos de proceso de fabricación mediante la eliminación de complejos pasos de conversión de formato.

"Estamos trabajando con Mentor Graphics, una empresa líder en la adopción de estándares OASIS, para mejorar la eficiencia de arriba a abajo la máscara de la toma de la cadena de valor mediante el fomento de la adopción de estándares abiertos", dijo Tom San Dennis, vicepresidente senior y gerente general de silicio de Applied Systems Group. "Al incorporar el formato OASIS.MASK en nuestros sistemas Aera2, podemos continuar proporcionando el más competitivo, de alto rendimiento, mueren a base de datos de soluciones de inspección para nuestros clientes más avanzados."

"La decisión de Applied Materials para implementar en sus productos OASIS.MASK muestra el valor de la máscara de OASIS formato de datos", dijo Joseph Sawicki, vicepresidente y gerente general de la división de diseño de silicio-en Mentor Graphics. "La experiencia del mentor con OASIS se remonta a la elaboración del formato OASIS original (SEMI estándar P39), por lo que la incorporación de nuestra tecnología en Aera2 era una extensión lógica de los esfuerzos de nuestro producto. El uso de OASIS.MASK para la fabricación de la máscara es totalmente compatible con el calibre ® plataforma en el Calibre FRACTUREv ™, Calibre MDPverify ™, Calibre y MDPview ™ productos, que están disponibles hoy en día. "

Aplicada y mentor será un escaparate de su implantación pionera de OASIS.MASK en un entorno de producción en SPIE fotomáscara de 2009, la industria de la máscara de la toma de la principal técnica del simposio, que se celebrará del 14-17 en Monterey, California.

Applied Materials, Inc. (NASDAQ: AMAT) es el líder global en soluciones de nanofabricación Technology ™ con una amplia cartera de innovadores equipos de servicios y productos de software para la fabricación de chips semiconductores, pantallas planas, células solares fotovoltaicas, la electrónica flexible y energía vidrio eficiente. En Applied Materials, aplicamos tecnología de nanofabricación para mejorar la manera de vivir.

Last Update: 9. October 2011 21:16

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