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지도자 도표와 적용되는 물자는 중요한 공정표를 알립니다

Published on September 14, 2009 at 9:28 AM

Mentor Graphics Corporation (NASDAQ: MENT)와 Applied Materials, Inc. (NASDAQ: AMAT가) 오늘 가면 제조를 위한 열리는 자료 형식의 채용에 있는 중요한 공정표를 알렸습니다. 새로운 OASIS.MASK (반 표준 P44) 체재의 첫번째 양 생산 배치는 지도자 도표의 가면 데이터 준비 소프트웨어 기술을 사용하여 적용되는 Aera2™에 의하여 진행된 가면 검열제도에 실행되었습니다. 새로운 체재는 매우 32nm에 그리고 기술 마디의 밑에 날조 반도체 소자에 생명 인 복잡한, 고충실도 photomasks를 만들기의 업무를 간단하게 합니다.

OASIS.MASK (Photomasks를 위한 열려있는 삽화 시스템 상호 교환 기준)는 칩 수평 물리 및 가면 배치 데이터를 나타내고 표현하기 위하여 이용된 개방 기준 상호 교환 체재 입니다. OASIS.MASK 체재는 대략 1/2 씩 소프트웨어 도구와 가면 제조 설비 - 오늘 가깝 테라바이트 파일 사이즈를 가진 주요 수당 사이에서 파일 전송 좁은 통로를 삭제하는 가면 자료 파일의 규모를 감소시킵니다. 열리는 공용영역, 그것이 동일 자료 파일을 패턴 발생, 도량형학 및 검사를 위해 가능하게 한 대로, 복잡한 체재 변환 단계를 삭제해서 가면 제조공정 교류를 간단하게 해 이용되는.

"우리는 지도자 도표로 작동하고 있습니다, 오아시스 기준의 채용에 있는 지도자, 효율성을 개방 기준의 채용을 격려해서 가면 만드는 가치 사슬 왔다갔다 향상하기 위하여," 톰 St. 데니스, 선임 부사장 및 적용되는 실리콘 시스템 단의 총관리인을 말했습니다. "우리의 Aera2 시스템에 있는 OASIS.MASK 체재를 통합해서, 우리는 경쟁 적이고, 가장 높은 처리량, 우리의 가장 진보된 고객을 위한 거푸집 에 데이타베이스 검사 해결책을 제공하는 것을 계속해서 좋습니다."

"물자의 결정을 오아시스 가면 자료 형식의 가치 그들의 제품 쇼에 있는 OASIS.MASK를 실행하기 위하여 적용했습니다," 조셉 Sawicki, 부사장 그리고 지도자 도표에 디자인 에 실리콘 부분을 위한 총관리인을 말했습니다. "오아시스를 가진 지도자의 경험은 본래 오아시스 체재 (반 표준 P39)의 발달에 돌아갑니다, 그래서 Aera2로 우리의 기술을 통합하는 것은 우리의 제품 노력의 논리적인 연장이었습니다. 가면 제조를 위한 OASIS.MASK의 사용은 구경 FRACTUREv™, 구경 MDPverify™, 및 전부 유효한 오늘."인 구경 MDPview™ 제품에 있는 Calibre® 플래트홈에 의해 전적으로 지지됩니다,

적용될 지도자 SPIE Photomask 2009년 의 가면 만드는 기업의 최고 기술적인 심포지엄에 생산 환경에 있는 OASIS.MASK의 그들의 개척 배치를, 캘리포니아 몬트레이에서 9월 14-17일 붙들리기 위하여 전시할 것입니다.

Applied Materials, Inc. (NASDAQ: AMAT는) 혁신적인 장비의 넓은 포트홀리로를 가진 Nanomanufacturing Technology™ 해결책에 있는 글로벌 지도자, 반도체 칩의 제작을 위한 서비스와 소프트웨어 생산품, 편평한 패널 디스플레이, 태양 광전지, 유연한 전자공학 및 에너지 효과 유리입니다. 적용되는 물자에, 우리는 Nanomanufacturing 살아있는 쪽 사람들을 향상하기 위하여 기술을 적용합니다.

Last Update: 13. January 2012 21:43

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